[发明专利]基于二维光学点阵的反射型面形测量方法和装置有效

专利信息
申请号: 201711401454.X 申请日: 2017-12-21
公开(公告)号: CN108303038B 公开(公告)日: 2020-02-21
发明(设计)人: 胡春光;凌秋雨;查日东;李奇峰;胡晓东;李宏斌;胡小唐 申请(专利权)人: 天津大学
主分类号: G01B11/25 分类号: G01B11/25;G01B11/00
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人: 喻颖
地址: 300354 天津市*** 国省代码: 天津;12
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摘要: 一种基于二维光学点阵的反射型面形测量方法和装置,该方法利用经空间光调制器调制以及两次透镜傅里叶变换的出射光分别在反射型被测面和参考平面上形成光学点阵,被测面上的光学点阵受被测面面形调制后相对于参考平面发生偏移,根据该偏移量结合基于Zernike多项式的模式重构算法重构出被测面的面形。并进一步提供了实现该方法的测量装置以及该方法在测量物体变形的应用。本公开简化了测量过程,实现了快速测量。
搜索关键词: 基于 二维 光学 点阵 反射 型面形 测量方法 装置
【主权项】:
1.一种基于二维光学点阵的反射型面形测量方法,包括:使经空间光调制器调制以及经两次透镜傅里叶变换后的出射光,在参考平面反射镜上形成二维光学点阵,并被图像采集元件采集得到参考二维光学点阵图像;使同样的出射光在反射型被测面上形成二维光学点阵,并被图像采集元件采集得到测试二维光学点阵图像;计算测试二维光学点阵图像中光学点阵质心相对于参考二维光学点阵图像中光学点阵质心在直角坐标系中x方向和y方向产生的偏移量;以及根据计算所得偏移量,利用基于Zernike多项式的模式重构算法重构被测面的面形。
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