[发明专利]用于处理腔室的腔室部件和制造制品的方法有效
| 申请号： | 201711394369.5 | 申请日： | 2014-07-15 |
| 公开（公告）号： | CN107978507B | 公开（公告）日： | 2019-12-06 |
| 发明（设计）人： | J·Y·孙;B·P·卡农戈;V·菲鲁兹多尔;Y·张 | 申请（专利权）人： | 应用材料公司 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32;C23C14/08;C23C14/00 |
| 代理公司： | 31100 上海专利商标事务所有限公司 | 代理人： | 杨学春;侯颖媖<国际申请>=<国际公布> |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 本发明涉及用于处理腔室的腔室部件和制造制品的方法。一种制造制品的方法包括提供用于蚀刻反应器的环。随后，执行离子辅助沉积(IAD)以在环的至少一个表面上沉积保护层，其中，保护层是抗等离子体的稀土氧化物膜，所述抗等离子体的稀土氧化物膜具有小于300微米的厚度以及小于6微英寸的平均表面粗糙度。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 处理 部件 制造 制品 方法 | ||
【主权项】：
1.一种用于处理腔室的腔室部件，包括：/n环形主体，所述环形主体包括氧化物基陶瓷、氮化物基陶瓷或碳化物基陶瓷中的至少一者，其中所述环形主体是包括顶部平坦区域、环内侧和环外侧的烧结陶瓷体，其中所述环内侧包括竖直壁；以及/n保护层，所述保护层在所述环形主体的至少所述顶部平坦区域、所述环内侧和所述环外侧上，其中：/n所述保护层是包含40-100摩尔％的Y2O3、0-60摩尔％的ZrO2和0-10摩尔％的Al2O3的共形层；/n所述保护层具有小于1％的孔隙度；/n所述保护层具有小于6微英寸的平均表面粗糙度；以及/n所述保护层在所述顶部平坦区域上具有小于300μm的第一厚度并且在所述环内侧的所述竖直壁上具有第二厚度，其中所述第二厚度是所述第一厚度的45-70％。/n
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