[发明专利]一种具有表面增强拉曼散射的金纳米环堆叠阵列基底及制备方法有效
| 申请号： | 201711389231.6 | 申请日： | 2017-12-21 |
| 公开（公告）号： | CN107966429B | 公开（公告）日： | 2020-05-15 |
| 发明（设计）人： | 董莉彤;王作斌;张子昂;王璐;李理;周东杨;刘梦楠;翁占坤;宋正勋;许红梅 | 申请（专利权）人： | 长春理工大学 |
| 主分类号： | G01N21/65 | 分类号： | G01N21/65;G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京科迪生专利代理有限责任公司 11251 | 代理人： | 安丽 |
| 地址： | 130022 *** | 国省代码： | 吉林;22 |
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| 摘要： | 本发明公开一种具有表面增强拉曼散射的金纳米环堆叠阵列基底及制备方法，利用光刻工艺中的驻波效应，即入射光基底材料的表面反射与入射光发生干涉而在光刻胶上形成一种特定堆叠三维结构，与此同时，多光束激光干涉光刻技术又将这种堆叠三维结构按照指定的周期分布排列，经过溅射一层纳米厚度的金薄膜，形成金纳米环堆叠阵列，该结构具有表面增强拉曼散射的效果，可用于拉曼散射检测的基底材料，从而有效地提高被检测物质的拉曼信号。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 具有 表面 增强 散射 纳米 堆叠 阵列 基底 制备 方法 | ||
【主权项】：
一种具有表面增强拉曼散射的金纳米环堆叠阵列基底，其特征在于：所述具有表面增强拉曼散射的金纳米环堆叠阵列基底为一种三维结构，所述三维结构是利用光刻工艺中的驻波效应和多光束激光干涉光刻技术获得；所述三维结构在Z轴方向上为金纳米环状堆叠结构，金纳米环按照固定的周期距离堆叠一起，由下至上，金纳米环的直径逐渐增大或者逐渐减小，而宽度逐渐减小；所述三维结构通过多光束激光干涉光刻技术，在X轴和Y轴方向内，形成不同的形状、不同周期性分布的金纳米环堆叠阵列结构，从而形成金纳米环堆叠阵列基底。
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