[发明专利]一种基质辅助激光解析离子源真空进样装置在审

专利信息
申请号: 201711351923.1 申请日: 2017-12-15
公开(公告)号: CN107907584A 公开(公告)日: 2018-04-13
发明(设计)人: 洪大伟;王博;王立新 申请(专利权)人: 德信致安(天津)科技有限公司
主分类号: G01N27/62 分类号: G01N27/62
代理公司: 天津滨海科纬知识产权代理有限公司12211 代理人: 杨慧玲
地址: 300000 *** 国省代码: 天津;12
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摘要: 发明创造提供了一种基质辅助激光解析离子源真空进样装置,包括腔体、二维移动平台,二维移动平台设置在腔体内并沿水平导轨和竖直导轨进行左右和上下移动,二维移动平台上方还设置有靶台,腔体上方设有盖板,盖板可上下移动。本发明通过与进样舱驱动齿轮连接的齿轮驱动电机转动,带动舱盖齿轮向下转动,使得盖板的凹槽与舱盖齿轮通过密封胶圈形成封闭腔室,以形成过渡真空腔室,可以对进样舱单独抽放真空,按照真空进样系统的控制流程,有效地实现在系统真空度不变的情况下,简单快速的更换样品;本发明在维持高真空度的状态下,实现了快速的自动进样与检测,大大提高了质谱仪器的工作效率。
搜索关键词: 一种 基质 辅助 激光 解析 离子源 真空 装置
【主权项】:
一种基质辅助激光解析离子源真空进样装置,其特征在于:包括腔体、二维移动平台,所述二维移动平台设置在腔体内并沿水平导轨和竖直导轨进行左右和上下移动,所述二维移动平台上方还设置有靶台,靶台随二维移动平台移动,所述腔体上方设有盖板,所述盖板可上下移动。
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