[发明专利]一种基质辅助激光解析离子源真空进样装置

说明书

技术领域

本发明创造属于基质辅助激光解析离子源技术领域，尤其是涉及一种基质辅助激光解析离子源真空进样装置。

背景技术

在基质辅助激光解析离子源进行的固体样品解析过程中，样品在大气压下通常为固定状态，经过进样装置，由大气压进入真空装置，在真空条件下被离子化。因此需要设计能够精确移动定位的二维样品台，也需要将样品在大气环境下在不降低仪器腔体真空的条件下送入腔体进行分析，以实现三个目的：一是在不破坏腔体真空的情况下进样；二是样品的精确定位，因为激光光斑位置固定；三是样品的更换，需要在进样位和分析位之间快速移动。完成样品进样和真空内的位移调节。

发明内容

有鉴于此，本发明创造旨在提出一种基质辅助激光解析离子源真空进样装置，在维持高真空度的状态下，实现了快速的自动进样与检测，大大提高了质谱仪器的工作效率。

为达到上述目的，本发明创造的技术方案是这样实现的：

一种基质辅助激光解析离子源真空进样装置，包括腔体、二维移动平台，所述二维移动平台设置在腔体内并沿水平导轨和竖直导轨进行左右和上下移动，所述二维移动平台上方还设置有靶台，靶台随二维移动平台移动，所述腔体上方设有盖板，所述盖板可上下移动。

进一步的，所述盖板包括进样舱舱盖、与进样舱舱盖相配合的舱盖基座、安装在舱盖基座下方与舱盖基座匹配的进样舱驱动齿轮、与进样舱驱动齿轮连接的齿轮驱动电机，所述舱盖基座上方还设有进气阀、出气阀，所述进气阀、出气阀和进样舱舱盖通过一个三通以及气管连接到一起，所述盖板表面还设有与靶台相适应的盖板凹槽。

进一步的，所述进样舱驱动齿轮上有三个相同的凹槽，每个凹槽占据圆的120度，且凹槽的深度沿法兰的圆周方向逐渐变化。

进一步的，所述舱盖基座上安装有三个轴承，轴承分别在三个凹槽中，随着齿轮的转动，带动舱盖基座升降。

进一步的，所述进样舱驱动齿轮与所述盖板凹槽之间还设有密封胶圈。

进一步的，所述二维移动平台包括X轴托盘，所述X轴托盘下方设有X轴导轨，所述X轴托盘上方设有Y轴导轨，所述Y轴导轨上方设有Y轴托盘，所述X轴托盘上还设有Y轴平台固定架，所述Y轴平台固定架通过Y轴丝杠连接Y轴真空电机，所述X轴托盘上还设有X轴平台固定架，所述X轴平台固定架通过X轴丝杠连接X轴真空电机，所述靶台设置在所述Y轴托盘上。

进一步的，所述二维移动平台带动靶台按照设定的位置移动到盖板下方，舱盖、舱盖基座和靶台形成进样舱，所述进样舱连接分子泵，所述分子泵还连接机械泵。

进一步的，所述出气阀的一端通过气管连接在分子泵与机械泵之间。

进一步的，所述分子泵与机械泵之间还设有真空规。

进一步的，所述靶台与二维移动平台可拆卸安装。

相对于现有技术，本发明创造所述的一种基质辅助激光解析离子源真空进样装置具有以下优势：

(1)本发明通过与进样舱驱动齿轮连接的齿轮驱动电机转动，带动舱盖齿轮向下转动，使得盖板的凹槽与舱盖齿轮通过密封胶圈形成封闭腔室，以形成过渡真空腔室，可以对进样舱单独抽放真空，按照真空进样系统的控制流程，有效地实现在系统真空度不变的情况下，简单快速的更换样品

(2)本发明在维持高真空度的状态下，实现了快速的自动进样与检测，大大提高了质谱仪器的工作效率。

附图说明

构成本发明创造的一部分的附图用来提供对本发明创造的进一步理解，本发明创造的示意性实施例及其说明用于解释本发明创造，并不构成对本发明创造的不当限定。在附图中：

图1为本发明创造实施例所述的一种基质辅助激光解析离子源真空进样装置的结构示意图；

图2为本发明创造实施例所述的盖板的结构示意图；

图3为本发明创造实施例所述的二维移动平台的结构示意图；

图4为本发明创造实施例所述的靶台的结构示意图；

图5为本发明创造实施例所述的进样舱驱动齿轮的结构示意图；

图6为本发明创造实施例所述的舱盖基座的剖面图；

图7为本发明创造实施例所述的进样舱真空原理图；

图8为本发明创造实施例所述的带有顶盖的进样装置的整体示意图。

附图标记说明：