[发明专利]一种超薄二维层状材料纳米片及其制备方法有效
| 申请号： | 201711336070.4 | 申请日： | 2017-12-14 |
| 公开（公告）号： | CN108002374B | 公开（公告）日： | 2021-03-19 |
| 发明（设计）人： | 王岩;杨皖分;张剑芳;吴玉程;崔接武;舒霞;张勇;秦永强;郑红梅 | 申请（专利权）人： | 合肥工业大学 |
| 主分类号： | C01B32/19 | 分类号： | C01B32/19;B82Y40/00;C01G39/06;C01B21/064;C01B25/02 |
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| 地址： | 230000 *** | 国省代码： | 安徽;34 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种超薄二维层状材料纳米片及其制备方法，所述的纳米片为单层或少层，所述的纳米厚度为0.8～2.5nm，尺寸为0.5～10μm。其制备方法，具体步骤如下：①、将高纯二维层状材料初始粉末放入离心管中，将液态气体注入离心管中，并将其敞口放置于盛有液态气体的保温桶中保温0.5～6h；②、取出离心管，待液态气体完全挥发后立即将上述粉末分散于溶剂中，并超声处理0.5～4h，超声功率120‑300W，制得超薄二维层状材料纳米片。本发明工艺简单，成本低廉，能够实现包括石墨烯、二硫化钼、六方氮化硼等典型二维层状材料纳米片的高效率制备。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 超薄 二维 层状 材料 纳米 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
1.一种超薄二维层状材料纳米片，其特征在于：所述的纳米片为单层或少层，所述的纳米厚度为0.8～2.5nm，尺寸为0.5～10μm。
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