[发明专利]一种大面阵CCD光窗清洁方法有效

专利信息
申请号: 201711325373.6 申请日: 2017-12-13
公开(公告)号: CN108246750B 公开(公告)日: 2020-10-09
发明(设计)人: 廉黎;郭宏;于云翔;李战行;樊立 申请(专利权)人: 北京华航无线电测量研究所
主分类号: B08B11/00 分类号: B08B11/00;B08B7/00;B08B13/00;B08B5/04;B08B1/00
代理公司: 北京天达知识产权代理事务所(普通合伙) 11386 代理人: 胡时冶;张春
地址: 100013 *** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明公开了一种大面阵CCD光窗清洁方法,通过吸尘装置、有机溶剂、涂抹防静电清洁胶等方式对CCD光窗表面、四周缝隙以及相机周边框架结构表面上的附着物进行清洁。该方法避免了清洁时对CCD芯片产生静电伤害;一次清洁后CCD光窗表面的暗斑像个数降低了约10倍,清洁时间大大缩短;并且降低了相机装配完成后在环境试验中的二次污染。
搜索关键词: 一种 大面 ccd 清洁 方法
【主权项】:
1.一种大面阵CCD光窗清洁方法,其特征在于,包括如下步骤:步骤S1、对CCD光窗表面、四周缝隙以及相机周边框架结构表面上的附着物进行清洁;所述附着物包括移动附着物和非移动附着物;步骤S2、采用光学防静电清洁胶对CCD光窗表面上的剩余附着物进行进一步清洁;步骤S3、目视确认CCD光窗的清洁效果;用手电照射CCD光窗表面,目视检查是否存在可移动附着物,如果存在可移动附着物,用粘接棒轻轻粘除,如果存在非移动附着物,重复步骤S2~步骤S3;步骤S4、通电检查CCD光窗的清洁效果;将含有镜头的相机装配好后通电,对照度均匀的灯板成像,检查是否存在附着物形成的暗斑像;是,则重复步骤S2~步骤S4;否,则结束清洁工作。
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