[发明专利]一种大面阵CCD光窗清洁方法

说明书

本发明公开了一种大面阵CCD光窗清洁方法，通过吸尘装置、有机溶剂、涂抹防静电清洁胶等方式对CCD光窗表面、四周缝隙以及相机周边框架结构表面上的附着物进行清洁。该方法避免了清洁时对CCD芯片产生静电伤害；一次清洁后CCD光窗表面的暗斑像个数降低了约10倍，清洁时间大大缩短；并且降低了相机装配完成后在环境试验中的二次污染。

技术领域

本发明属于光学技术领域，涉及一种大面阵CCD光窗清洁方法。

背景技术

大面阵CCD表面会覆盖有光窗对大面阵CCD进行保护，大面阵CCD光窗一旦被污染会导致以下两点问题：所成图像出现遮挡，无法准确全面的得到所需观测的全部场景照片；如果需要跟踪目标，附着物有可能会遮挡目标，导致任务失败。

大面阵CCD光窗面积约为一般光电产品采用的CCD面阵的约10倍～20倍大小，清洁较为困难。

采用酒精乙醚的混合溶液进行清洁，操作人员接触到乙醚气体，会使人体受到伤害，且这种清洁方式依旧容易留有污斑，并在振动冲击等环境下出现二次污染；采用气吹及清洁棒粘接的方法进行清洁，但是这种清洁方式只能去除浮动类附着物。

发明内容

鉴于上述的分析，本发明提出了一种大面阵CCD光窗清洁方法，解决大面阵CCD光窗清洁困难的问题。

本发明的目的是通过以下技术方案实现的：

一种大面阵CCD光窗清洁方法，包括如下步骤：

步骤S1、对CCD光窗表面、四周缝隙以及相机周边框架结构表面上的附着物进行清洁；所述附着物包括移动附着物和非移动附着物；

步骤S2、采用光学防静电清洁胶对CCD光窗表面上的剩余附着物进行进一步清洁；

步骤S3、目视确认CCD光窗的清洁效果；用手电照射CCD光窗表面，目视检查是否存在可移动附着物，如果存在可移动附着物，用粘接棒轻轻粘除，如果存在非移动附着物，重复步骤S2～步骤S3；

步骤S4、通电检查CCD光窗的清洁效果；将含有镜头的相机装配好后通电，对照度均匀的灯板成像，检查是否存在附着物形成的暗斑像；是，则重复步骤S2～步骤S4；否，则结束清洁工作。

进一步地，所述步骤S1包括以下子步骤：

步骤S101、采用吸尘装置，吸取CCD光窗表面、四周缝隙以及相机周边框架结构表面上的可移动附着物；

步骤S102、对CCD芯片周边结构框表面上残余的牢固可移动附着物采用粘接纸胶带粘取；

步骤S103、对CCD芯片周边结构框表面上残余的非移动附着物进行清洁；

步骤S104、对CCD光窗表面上残余的非移动附着物进行清洁。

进一步地，所述吸尘装置包括防静电部件，所述防静电部件安装在吸尘装置前端的夹嘴上，包括，软管、金属空心管和导电橡胶；所述软管一端固定安装在吸尘器前端的夹嘴上，另一端与所述金属空心管的一端相连，所述金属空心管的另一端被导电橡胶包裹。

进一步地，清洁时，相机清洁人员手握住所述金属空心管，且所述导电橡胶间或与大面阵CCD光窗接触。

进一步地，所述步骤S103、S104中对残余的非移动附着物的清洁方法是使用清洁工具蘸取有机溶剂对附着物进行擦拭。

进一步地，所述有机溶剂为无水乙醇。

进一步地，所述无水乙醇浓度不小于99％。

进一步地，所述清洁工具为棉质清洁棒，其清洁头为长绒纯棉制成，外观洁净光滑，无浮动毛屑。

进一步地，步骤S2的清洁方法包括：