[发明专利]一种alpha通道边界腐蚀的方法及装置有效
| 申请号： | 201711319709.8 | 申请日： | 2017-12-12 |
| 公开（公告）号： | CN108198128B | 公开（公告）日： | 2021-12-03 |
| 发明（设计）人： | 见良;郑鹏程;陶颖;刘铁华 | 申请（专利权）人： | 北京美摄网络科技有限公司 |
| 主分类号： | G06T3/00 | 分类号： | G06T3/00 |
| 代理公司： | 北京润泽恒知识产权代理有限公司 11319 | 代理人： | 莎日娜 |
| 地址： | 100195 北京市*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： |
本发明涉及图像处理领域，具体地涉及一种alpha通道边界腐蚀的方法及装置；所述方法包括：获取目标图像的alpha通道图像；所述alpha通道图像包括各像素点的alpha值；根据预设的卷积核和预设卷积核半径，对所述alpha通道图像的各像素点的alpha值，进行一维横向卷积处理和一维纵向卷积处理；根据所述卷积处理后的alpha通道图像的各个像素点的alpha值，对所述目标图像进行抠图处理；其中，卷积核 |
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| 搜索关键词： | 一种 alpha 通道 边界 腐蚀 方法 装置 | ||
【主权项】：
1.一种alpha通道边界腐蚀的方法，其特征在于，包括：获取目标图像的alpha通道图像；所述alpha通道图像包括各像素点的alpha值；根据预设的卷积核和预设卷积核半径，对所述alpha通道图像的各像素点的alpha值，进行一维横向卷积处理和一维纵向卷积处理；根据所述卷积处理后的alpha通道图像的各个像素点的alpha值，对所述目标图像进行抠图处理；其中，卷积核![]()
σ为预设值，0≤σ≤1；p为参与卷积的像素点与目标卷积的像素点的横向相对坐标或纵向相对坐标。
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