[发明专利]光学成像系统倍率与畸变高精度测量装置及测量方法有效

专利信息
申请号: 201711310720.8 申请日: 2017-12-11
公开(公告)号: CN108106818B 公开(公告)日: 2020-04-03
发明(设计)人: 董冠极;唐锋;王向朝;冯鹏;彭常哲;严焱 申请(专利权)人: 中国科学院上海光学精密机械研究所
主分类号: G01M11/02 分类号: G01M11/02
代理公司: 上海恒慧知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 31317 代理人: 张宁展
地址: 201800 *** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明公开了一种光学成像系统倍率与畸变高精度测量装置,包括至少两个点光源、面阵探测器、物方工作台、像方工作台,其中:由物方工作台承载的两个点光源位于待测光学成像系统的物方视场内,出射光来自同一光源并可相互干涉;而由像方工作台承载的面阵探测器位于待测光学成像系统的像方区域。采用上述装置测量待测光学成像系统的倍率与畸变:首先,测量成像系统中心视场沿物方工作台X和Y方向的倍率作为这两个方向上的理想倍率βx0和βy0;然后,通过测量相邻两个点光源间距及其经过成像系统后所成的两个像点间距,得到成像系统全视场X和Y方向的倍率分布;最后利用各视场点的倍率和坐标值,得到全视场X和Y方向上相对畸变分布。
搜索关键词: 光学 成像 系统 倍率 畸变 高精度 测量 装置 测量方法
【主权项】:
1.一种光学成像系统倍率与畸变高精度测量装置,其特征在于包括:至少两个点光源、面阵探测器(2)、物方工作台(3)和像方工作台(4);所述的点光源位于待测光学成像系统(1)的物方视场内,出射光均来自同一光源且相互干涉;所述的面阵探测器(2)位于待测光学成像系统(1)的像方区域,该面阵探测器(2)的面积大小能够确保接收两个点光源经过待测光学成像系统(1)后的全部光场;所述的物方工作台(3)用于承载点光源,且具有XYZ三个方向的调节自由度并能反馈三个方向的移动位置;所述的像方工作台(4)用于承载面阵探测器(2),且具有XYZ三个方向的调节自由度,此外像方工作台(4)的XYZ三个自由度调节方向与物方工作台(3)的自由度调节方向平行。
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