[发明专利]一种硅材料的清洗方法有效
申请号: | 201711286735.5 | 申请日: | 2017-12-07 |
公开(公告)号: | CN108212831B | 公开(公告)日: | 2019-10-11 |
发明(设计)人: | 盛广喜 | 申请(专利权)人: | 广德盛源电器有限公司 |
主分类号: | B08B1/00 | 分类号: | B08B1/00;B08B1/02;B08B3/02;B08B3/08;B08B3/12;B08B7/04;F26B5/08 |
代理公司: | 合肥鼎途知识产权代理事务所(普通合伙) 34122 | 代理人: | 叶丹 |
地址: | 242200 安徽省宣城*** | 国省代码: | 安徽;34 |
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摘要: | 本发明公开了一种硅材料的清洗方法,所述硅材料清洗装置的主体结构设计为清洗槽,所述清洗槽的顶部放置有清洗槽盖,所述清洗槽内安装有清洗滚筒,所述清洗滚筒内部安装有清洗刷,所述清洗滚筒由驱动电机提供动力,所述驱动电机的右侧安装有调速装置,所述调速装置与清洗槽之间安装有连接轴承,所述清洗槽的底部安装有超声波发生器,清洗方法为:先将硅材料进行超声波醇水冲洗,再由稀碱液进行浸泡,再使用稀酸液进行喷淋,最后在进行高压水洗,接着甩干水后进行烘干,本发明能够有效地清洗硅材料表面的杂质,反应平稳,基本不产生热量,不发生氧化反应,避免因氧化而对硅材料产生污染,提高了硅材料的质量;降低了硅材料的损耗率,节约了成本。 | ||
搜索关键词: | 硅材料 清洗槽 清洗滚筒 清洗 调速装置 驱动电机 超声波发生器 主体结构设计 有效地清洗 高压水洗 连接轴承 内部安装 清洗槽盖 清洗装置 氧化反应 超声波 清洗刷 损耗率 稀碱液 稀酸液 再使用 醇水 烘干 喷淋 甩干 冲洗 浸泡 节约 污染 | ||
【主权项】:
1.一种硅材料的清洗方法,所述硅材料清洗装置的主体结构设计为清洗槽(1),所述清洗槽(1)内安装有清洗滚筒(3),所述清洗滚筒(3)内部安装有清洗刷(5),所述清洗滚筒(3)由驱动电机(6)提供动力,所述驱动电机(6)的右侧安装有调速装置(7),所述清洗槽(1)的底部安装有超声波发生器(4),所述清洗槽(1)的右侧中下部设置有出水管(9),所述清洗槽(1)右侧顶部设置有进水管(11),所述进水管(11)在清洗槽(1)内部的一段上安装有喷淋装置(10),所述进水管(11)的头部连接有纯水罐(15)、乙醇水溶液罐(13)、碱液罐(14)和酸液罐(16),所述进水管(11)与乙醇水溶液罐(13)、碱液罐(14)、纯水罐(15)和酸液罐(16)之间均安装有放液阀门(12),其特征在于:所述硅材料的清洗方法具体包括以下步骤:1).醇水粗洗:先将硅材料放置到清洗滚筒(3)与清洗刷(5)之间的空隙内,启动驱动电机(6)带动清洗滚筒(3)旋转,使用调速装置(7)调整旋转速率,拧开乙醇水溶液罐(13)下方的放液阀门(12),乙醇水溶液经进水管(11)和喷淋装置(10)进行喷淋,同时打开清洗槽(1)底部的超声波发生器(4)进行超声波清洗;2).碱液浸泡:在步骤1完成后,关闭乙醇水溶液罐(13)下方的放液阀门(12),使用出水管(9)将液体排出,拧开碱液罐(14)下方的放液阀门(12),稀碱混合液经进水管(11)和喷淋装置(10) 进行喷淋,至完全浸没清洗滚筒(3),使用调速装置(7)调节旋转速率至低速,同时关闭清洗槽(1)底部的超声波发生器(4)后进行碱液浸泡;3).酸液喷淋:在步骤2完成后,关闭碱液罐(14)下方的放液阀门(12),使用出水管(9)将液体排出,拧开酸液罐(16)下方的放液阀门(12),稀酸混合液经进水管(11)和喷淋装置(10)进行喷淋,使用调速装置(7)调节旋转速率至中速,进行酸液喷淋冲洗;4).高压水洗:在步骤3完成后,关闭酸液罐(16)下方的放液阀门(12),使用出水管(9)将液体排出,拧开纯水罐(15)下方的放液阀门(12),超纯水经进水管(11)和喷淋装置(10)进行高压喷淋冲洗,同时打开清洗槽(1)底部的超声波发生器(4)进行超声波清洗,喷淋冲洗至液体的PH值为7;5).变速甩水:在步骤4完成后,关闭纯水罐(15)下方的放液阀门(12),使用出水管(9)将液体排出,使用调速装置(7)调节旋转速率从中速由一定的加速度增至高速后进行甩水,一段时间后,再由高速以一定的加速度减至低速完成甩水过程;6).恒温烘干:在完成步骤5后,将已经脱水的硅材料由清洗滚筒(3)内移出至烘箱内,设置烘箱内温度后开启烘箱进行烘制一段时间后取出硅材料,即完成硅材料的清洗过程。
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