[发明专利]可重配置光学装置和用于生成光学涡流的方法有效

专利信息
申请号: 201711267201.8 申请日: 2017-12-05
公开(公告)号: CN108345129B 公开(公告)日: 2023-06-16
发明(设计)人: T·L·韦弗 申请(专利权)人: 波音公司
主分类号: G02F1/00 分类号: G02F1/00
代理公司: 北京三友知识产权代理有限公司 11127 代理人: 吕俊刚;杨薇
地址: 美国伊*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 本申请涉及可重配置光学装置和用于生成光学涡流的方法。具体地,一种可重配置光学装置包括空间光调制器和光学信号发生器。空间光调制器包括一层光敏化碳纳米管,并且各光敏化碳纳米管被配置为响应于光学信号而在导电状态与半导电状态之间转变。光学信号发生器被配置为向空间光调制器提供光学信号,以使得一层光敏化碳纳米管形成导电纳米管的图案,导电纳米管的图案被配置为修改干扰信号,以形成光学涡流。
搜索关键词: 配置 光学 装置 用于 生成 涡流 方法
【主权项】:
1.一种可重配置光学装置(104),该可重配置光学装置(104)包括:空间光调制器(110),该空间光调制器(110)包括一层光敏化碳纳米管(204),各光敏化碳纳米管(204)被配置为响应于光学信号(308)而在导电状态与半导电状态之间转变;以及光学信号发生器(120),该光学信号发生器(120)被配置为向所述空间光调制器(110)提供所述光学信号(308),以使得所述一层光敏化碳纳米管(204)形成导电纳米管的图案(292/502),所述导电纳米管(204)的图案(292/502)被配置为修改干扰信号(352),以形成光学涡流。
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