[发明专利]决定方法、光学装置、投影光学系统、曝光装置有效
| 申请号： | 201711263246.8 | 申请日： | 2017-12-05 |
| 公开（公告）号： | CN108227397B | 公开（公告）日： | 2020-10-27 |
| 发明（设计）人： | 井本浩平;堆浩太郎 | 申请（专利权）人： | 佳能株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 中国贸促会专利商标事务所有限公司 11038 | 代理人： | 孙蕾 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明提供一种决定方法、光学装置、投影光学系统、曝光装置。该决定方法决定矩阵，该矩阵表示对光学元件施加力而使该光学元件变形的多个致动器各自的推力和设置有所述多个致动器的各个致动器的部位处的所述光学元件的位移之间的关系，该决定方法具有：第一工序，在以单位电流驱动所述多个致动器中的一个致动器时，取得分别在所述多个致动器中产生的电流的值和设置有所述多个致动器中的至少一个致动器的第一部位处的所述光学元件的位移；第二工序，根据在所述第一工序中取得的分别在所述多个致动器中产生的电流的值及所述第一部位处的所述光学元件的位移来决定所述矩阵。 | ||
| 搜索关键词： | 决定 方法 光学 装置 投影 光学系统 曝光 | ||
【主权项】：
1.一种决定方法，决定矩阵，该矩阵表示对光学元件施加力而使该光学元件变形的多个致动器各自的推力与设置有所述多个致动器的各个致动器的部位处的所述光学元件的位移之间的关系，其特征在于，具有：第一工序，在以单位电流驱动所述多个致动器中的一个致动器时，取得分别在所述多个致动器中产生的电流的值和设置有所述多个致动器中的至少一个致动器的第一部位处的所述光学元件的位移；以及第二工序，根据在所述第一工序中取得的分别在所述多个致动器中产生的电流的值及所述第一部位处的所述光学元件的位移，决定所述矩阵。
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