[发明专利]浸没流体控制装置、浸没式光刻系统与回收控制方法有效
| 申请号： | 201711247417.8 | 申请日： | 2017-11-30 |
| 公开（公告）号： | CN109856922B | 公开（公告）日： | 2020-11-13 |
| 发明（设计）人： | 聂宏飞;赵丹平;魏巍 | 申请（专利权）人： | 上海微电子装备（集团）股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 | 代理人： | 屈蘅;李时云 |
| 地址： | 201203 上*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种浸没流体控制装置、浸没式光刻系统与回收控制方法；所述的控制装置包括整机控制单元与回收控制单元；所述整机控制单元，用于向所述回收控制单元发送硅片台运动信息；所述硅片台运动信息用于表征所述硅片台在光刻过程中的运动轨迹；所述回收控制单元，用于根据所述整机控制单元发送的所述硅片台运动信息，计算得到所述光刻过程中的气液回收流量，并在所述光刻过程中，根据所述气液回收流量控制所述气液回收机构进行气液回收。 | ||
| 搜索关键词： | 浸没 流体 控制 装置 光刻 系统 回收 方法 | ||
【主权项】：
1.一种浸没流体控制装置，应用于浸没式光刻系统，所述浸没式光刻系统包括硅片台，以及气液回收机构，所述控制装置包括：整机控制单元与回收控制单元；所述整机控制单元，用于向所述回收控制单元发送硅片台运动信息；所述硅片台运动信息用于表征所述硅片台在光刻过程中的运动轨迹；所述回收控制单元，用于根据所述整机控制单元发送的所述硅片台运动信息，计算得到所述光刻过程中的气液回收流量，并在所述光刻过程中，根据所述气液回收流量控制所述气液回收机构进行气液回收。
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