[发明专利]差分CMOS处理电路及振荡系统在审

专利信息
申请号: 201711220186.1 申请日: 2017-11-28
公开(公告)号: CN107947756A 公开(公告)日: 2018-04-20
发明(设计)人: 陈振雄;高同强 申请(专利权)人: 中科亿海微电子科技(苏州)有限公司
主分类号: H03H9/02 分类号: H03H9/02
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司11021 代理人: 曹玲柱
地址: 215028 江苏省苏州市工业园*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 本公开提供了一种差分CMOS处理电路,包括两个源端互连的PMOS;两个源端互连的NMOS;滤波单元,分别与所述两个PMOS和两个NMOS相连,用于滤除该差分CMOS处理电路内部的低频信号,保留其中的高频信号,所述高频信号指预设频段范围内的信号,所述低频信号指低于所述预设频段范围内的信号;其中,所述两个PMOS和两个NMOS分别形成交叉耦合负阻结构,所述滤波单元形成高通滤波结构。此外,本公开还提供了一种振荡系统。本公开基于FBAR器件独特的阻抗特性,同时引入滤波单元,能够形成交叉耦合负阻结构和高通滤波结构,该振荡系统具有相位噪声特性好、线性度好、信号幅度大和功耗低的特性。
搜索关键词: cmos 处理 电路 振荡 系统
【主权项】:
一种差分CMOS处理电路,包括:两个PMOS,第一PMOS与第二PMOS的源端互连;两个NMOS,第一NMOS与第二NMOS的源端互连;以及滤波单元,分别与所述两个PMOS和两个NMOS相连,用于滤除该差分CMOS处理电路内部的低频信号,保留其中的高频信号,所述高频信号指预设频段范围内的信号,所述低频信号指低于所述预设频段范围内的信号;其中,所述两个PMOS和两个NMOS分别形成交叉耦合负阻结构。
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