[发明专利]一种面板版图设计中的曝光模拟方法有效
| 申请号： | 201711206769.9 | 申请日： | 2017-11-27 |
| 公开（公告）号： | CN107807497B | 公开（公告）日： | 2020-11-17 |
| 发明（设计）人： | 马海南;马涛;戴斌华;路艳芳;白丽双;周莉 | 申请（专利权）人： | 北京华大九天软件有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京德崇智捷知识产权代理有限公司 11467 | 代理人： | 王金双 |
| 地址： | 100102 北京*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 一种面板版图设计中的曝光模拟方法，包括以下步骤：抽象表示掩模板的曝光过程；得到掩模板与曝光区的匹配关系；根据掩模板及其相应的曝光区，计算最终的曝光模拟结果。本发明的面板版图设计中的曝光模拟方法，可以自动计算曝光模拟的结果，将工程师从人工模拟曝光过程中解放出来，具有快速、准确的优点，工程师可以根据曝光模拟结果，检查设计，迭代设计、检查，在前期减少错误。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 面板 版图 设计 中的 曝光 模拟 方法 | ||
【主权项】：
一种面板版图设计中的曝光模拟方法，包括以下步骤：(1)抽象表示掩模板的曝光过程；(2)得到掩模板与曝光区的匹配关系；(3)根据掩模板及其相应的曝光区，计算最终的曝光模拟结果。
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