[发明专利]一种面板版图设计中的曝光模拟方法

说明书

一种面板版图设计中的曝光模拟方法，包括以下步骤：抽象表示掩模板的曝光过程；得到掩模板与曝光区的匹配关系；根据掩模板及其相应的曝光区，计算最终的曝光模拟结果。本发明的面板版图设计中的曝光模拟方法，可以自动计算曝光模拟的结果，将工程师从人工模拟曝光过程中解放出来，具有快速、准确的优点，工程师可以根据曝光模拟结果，检查设计，迭代设计、检查，在前期减少错误。

技术领域

本发明涉及面板设计技术领域，特别是涉及一种面板版图设计中的曝光模 拟方法。

背景技术

在面板版图设计中，需要对版图进行模拟曝光以进行检查，称作曝光模拟。 如果结果不符合工程师预期，那么需要调整版图内容或者掩模板的放置位置以 及掩模板相应的曝光区域，以在前期排除部分错误。

在实际的曝光过程中，会先后放置并曝光多块掩模板，如图1所示，曝光 结果不受曝光顺序的影响。图1中左侧图形为曝光第一个掩模板的示意图，掩 模板上方为光源，掩模板下方玻璃板上显示出曝光后的结果；右侧图形为曝光 第二个掩模板的示意图，虚线表示第一个掩模板的位置，此时该掩模板已经不 存在，下方玻璃板上显示出这两个掩模板曝光后的结果。

曝光中重复曝光区中的图形会发生变化，最后要确保的即是这部分区域的 图形正确。然而，人工模拟曝光过程耗时较多，且容易出错。

有关本发明的基本概念，如下所示：

(1)版图：真实电路物理情况的平面几何形状描述，由多个图层组成。

(2)掩模板：版图上的每一个图层都对应了一块掩模板。

(3)玻璃板：其上覆盖有光敏保护材料，利用光敏保护材料，能够对区域 选择加工，将曝光部分保留或去除。

(4)曝光区：曝光过程中的每一块掩模板都对应一个曝光区域，一般为矩 形。

(5)重复曝光区：各掩模板的曝光区与其他掩模板的曝光区重复的部分。

(6)非重复曝光区：各掩模板的曝光区不与其他掩模板的曝光区有重复的 部分。

发明内容

为了解决现有技术存在的不足，本发明的目的在于提供一种面板版图设计 中的曝光模拟方法，以自动计算曝光模拟的结果，根据该模拟结果工程师可以 在前期发现设计中的问题并做出修改，发现曝光过程中的错误，并在设计阶段 予以修正。

为实现上述目的，本发明提供的面板版图设计中的曝光模拟方法，包括以 下步骤：

(1)抽象表示掩模板的曝光过程；

(2)得到掩模板与曝光区的匹配关系；

(3)根据掩模板及其相应的曝光区，计算最终的曝光模拟结果。

进一步地，步骤(1)进一步包括：将各掩模板的图形分别装到一个单元中， 将多个所述单元放置在一个表示玻璃板的矩形上，并在所述玻璃板的矩形上画 出表示曝光区的矩形。

进一步地，步骤(3)进一步包括：

计算重复曝光区的曝光模拟结果；

将重复曝光区的曝光模拟结果与非重复曝光区的曝光模拟结果进行合并， 得到最终的曝光模拟结果。

进一步地，所述计算出重复曝光区的曝光模拟结果的步骤，采用以下公式 计算出重复曝光区的曝光模拟结果：

其中，K：掩模板的数量；R′_k：掩模板k相应的曝 光区位于重复曝光区的部分；M′_k：掩模板k位于重复曝光区的部分；M″：重复 曝光区的曝光模拟结果。

进一步地，所述计算出重复曝光区的曝光模拟结果的步骤，采用以下公式 计算出重复曝光区的曝光模拟结果：