[发明专利]一种光电可调控FSS结构及其制备方法在审
申请号: | 201711197490.9 | 申请日: | 2017-11-27 |
公开(公告)号: | CN109841958A | 公开(公告)日: | 2019-06-04 |
发明(设计)人: | 不公告发明人 | 申请(专利权)人: | 长春理工大学 |
主分类号: | H01Q15/00 | 分类号: | H01Q15/00 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 130022 吉林省长春市*** | 国省代码: | 吉林;22 |
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摘要: | 本发明公开了一种光电可调控FSS结构及其制造方法,包括基底及在基底上形成的金属膜,金属膜的至少一部分被去除以形成开口区,开口区露出所述基底,开口区或未去除的金属膜区构成FSS振子的基本图案,所述FSS振子的基本图案的部分区域或该部分区域的邻近区域形成有光电导薄膜。本发明利用光电导薄膜光照导电特性控制FSS结构的单元结构尺寸变化,从而实现FSS的光电调控。本发明的该光电可调控FSS结构简单、制作工艺难度小,仅通过控制光照即可实现FSS的频率可调,且采用光刻技术可将线条做的很细,在屏蔽的同时,满足可见、红外等光波段的透过。 | ||
搜索关键词: | 开口区 可调控 基底 光电导薄膜 基本图案 金属膜 振子 去除 光照 尺寸变化 单元结构 导电特性 光电调控 光刻技术 金属膜区 邻近区域 频率可调 制作工艺 光波段 屏蔽 制备 线条 制造 | ||
【主权项】:
1.一种光电可调控FSS结构,包括基底(1)及在基底(1)上形成的金属膜(2),所述金属膜(2)的至少一部分被去除以形成开口区(c),该开口区(c)露出所述基底(1),所述开口区(c)或未去除的金属膜区构成FSS振子的基本图案,其特征在于:所述FSS振子的基本图案的部分区域或该部分区域的邻近区域形成有光电导薄膜。
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