[发明专利]用于去除铜表面铌镀层的化学退镀液和退镀方法有效
| 申请号： | 201711186414.8 | 申请日： | 2017-11-23 |
| 公开（公告）号： | CN108085684B | 公开（公告）日： | 2019-10-08 |
| 发明（设计）人： | 初青伟;谭腾;何源;郭浩;熊平然;游志明 | 申请（专利权）人： | 中国科学院近代物理研究所 |
| 主分类号： | C23F1/26 | 分类号： | C23F1/26 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 任岩 |
| 地址： | 730000 甘*** | 国省代码： | 甘肃;62 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 一种用于去除铜表面铌镀层的化学退镀液和退镀方法，所述化学退镀液包括：质量浓度为0.1‑0.5％的间硝基苯磺酸盐、质量浓度为1.0‑4.0％的氢氟酸和质量浓度为0.8‑2.0％的氟硼酸。本发明在不损伤铜基材表面的情况下，可以简单、迅速、稳定、完全去除铜基材表面的铌镀层，完好地回收利用已镀铌膜的铜制品。 | ||
| 搜索关键词： | 化学退镀液 镀层 去除 铜表面 铜基材 退镀 间硝基苯磺酸盐 回收利用 氟硼酸 氢氟酸 铜制品 损伤 | ||
【主权项】：
1.一种用于去除铜表面铌镀层的化学退镀液，由溶于水中的间硝基苯磺酸盐、氢氟酸和氟硼酸组成，其中各组分在所述化学退镀液中的浓度为：质量浓度为0.1‑0.5％的间硝基苯磺酸盐、质量浓度为1.0‑4.0％的氢氟酸和质量浓度为0.8‑2.0％的氟硼酸。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国科学院近代物理研究所，未经中国科学院近代物理研究所许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201711186414.8/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：一种蚀刻液组合物
- 下一篇：一种退铬液及其制备方法与应用
