[发明专利]清洁CMP抛光垫的方法有效
| 申请号： | 201711182824.5 | 申请日： | 2017-11-23 |
| 公开（公告）号： | CN108214286B | 公开（公告）日： | 2020-03-20 |
| 发明（设计）人： | C·J·本尼迪克特;A·E·洛林;R·博特纳 | 申请（专利权）人： | 罗门哈斯电子材料CMP控股股份有限公司 |
| 主分类号： | B24B37/34 | 分类号： | B24B37/34;B24B37/20;B08B1/00;B08B5/02 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人： | 陈哲锋;胡嘉倩 |
| 地址： | 美国特*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明提供用于清洁CMP抛光垫表面的方法，包含在170kPa(24.66psig)到600kPa(87psig)的压力下将强制空气或气体物流或帘幕从来源朝向真空源吹到所述CMP抛光垫衬底表面上，所述强制空气或气体以距竖直平面6°到15°的角度吹出，所述竖直平面垂直于所述衬底表面，横穿所述衬底表面的整个宽度并且穿过所述强制空气或气体来源，而同时沿着水平面输送所述CMP抛光垫，以使得所述CMP抛光垫表面的整个表面暴露于所述强制空气或气体中至少一次；并且在所述表面上处于所述强制空气或气体物流帘幕接触所述CMP抛光垫表面的位置下游的位置处真空抽吸所述CMP抛光垫表面。 | ||
| 搜索关键词： | 清洁 cmp 抛光 方法 | ||
【主权项】：
1.一种用于清洁CMP抛光垫表面的方法，包含：在170kPa(24.66psig)到600kPa(87psig)的压力下将强制空气或气体物流或帘幕从来源朝向真空源吹到所述CMP抛光垫衬底表面上，所述强制空气或气体以距竖直平面6°到15°的角度吹出，所述竖直平面垂直于所述衬底表面，横穿所述衬底表面的整个宽度并且穿过所述强制空气或气体来源，而同时：沿着水平面输送水平地安置于平坦工作台上的所述CMP抛光垫衬底，以使得所述CMP抛光垫表面的整个表面暴露于所述强制空气或气体中至少一次；并且在所述表面上处于所述强制空气或气体物流帘幕接触所述CMP抛光垫表面的位置下游的位置处真空抽吸所述CMP抛光垫表面。
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