[发明专利]阴影校正装置、电子设备和阴影校正方法有效

专利信息
申请号: 201711181163.4 申请日: 2017-11-23
公开(公告)号: CN108124079B 公开(公告)日: 2021-07-23
发明(设计)人: 笠原秀明 申请(专利权)人: 精工爱普生株式会社
主分类号: H04N5/217 分类号: H04N5/217;H04N5/361
代理公司: 北京康信知识产权代理有限责任公司 11240 代理人: 张永明;玉昌峰
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 发明涉及阴影校正装置、电子设备和阴影校正方法。阴影校正装置具备:基准取得部,取得测色基准物的拍摄图像的基准像素值W;对象像素值取得部,取得测量对象的拍摄图像的像素值S;移位值取得部,取得基于基准像素值W的移位值k2;查找表,存储有对应Wk2的变量G2(=2k1/Wk2);以及算出部,从查找表中读出与基准像素值W及移位值k2对应的变量G2,并根据下述式(1)计算测量对象的拍摄图像的各像素的阴影校正值Rdec:Rdec=(F·G2)>>(k1+k2)+B…(1)其中,F=S·(A‑B)+{W>>1}A、B及k1是整数常数。
搜索关键词: 阴影 校正 装置 电子设备 方法
【主权项】:
一种阴影校正装置,其特征在于,具备:基准取得部,取得测色基准物的拍摄图像中的像素值、即基准像素值W;对象像素值取得部,取得测量对象的拍摄图像中的像素值S;移位值取得部,取得基于所述基准像素值W的移位值k2;存储部,存储第一查找表,所述第一查找表中存储有将整数常数设为k1时由G2=2k1/W>>k2表示的、对应于通过将所述基准像素值W移位所述移位值k2而得到的值W>>k2的变量G2;以及算出部,从所述第一查找表中读出与由所述基准取得部所取得的所述基准像素值W及由所述移位值取得部所取得的所述移位值k2对应的所述变量G2,并根据下述式(1)计算所述测量对象的拍摄图像的各像素的阴影校正值Rdec:Rdec=(F·G2)>>(k1+k2)+B  ...(1)其中,F=S·(A‑B)+{W>>1}A、B及k1是整数常数。
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