[发明专利]一种四轴抛光机在审

专利信息
申请号: 201711145586.0 申请日: 2017-11-17
公开(公告)号: CN107900884A 公开(公告)日: 2018-04-13
发明(设计)人: 陈民宗 申请(专利权)人: 江门市顺宗抛光设备有限公司
主分类号: B24B29/00 分类号: B24B29/00;B24B41/02;B24B47/12
代理公司: 广州嘉权专利商标事务所有限公司44205 代理人: 梁嘉琦
地址: 529000 广*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 发明公开了一种四轴抛光机,包括用于对产品进行抛光处理的抛光装置和用于支撑抛光装置的机架;抛光装置包括磨盘、用于驱动磨盘沿着X轴方向与Y轴方向进行平移及沿着S轴方向进行转动的三轴运动机构和用于承载产品并驱动产品沿着Z轴方向进行上下移动的Z轴移动模块,磨盘设置于三轴运动机构之上;机架包括底座和支撑架,支撑架围绕底座设置,Z轴移动模块设置于底座之上,三轴运动机构设置于支撑架之上并处于Z轴移动模块的上方。该四轴抛光机,能够适用于多个表面均需抛光或者表面为弧形的产品的抛光处理,从而能够提高对产品的抛光效率。
搜索关键词: 一种 抛光机
【主权项】:
一种四轴抛光机,其特征在于:包括用于对产品进行抛光处理的抛光装置和用于支撑所述抛光装置的机架;所述抛光装置包括磨盘(11)、用于驱动所述磨盘(11)沿着X轴方向与Y轴方向进行平移及沿着S轴方向进行转动的三轴运动机构(12)和用于承载产品并驱动产品沿着Z轴方向进行上下移动的Z轴移动模块(13),所述磨盘(11)设置于所述三轴运动机构(12)之上;所述机架包括底座(21)和支撑架(22),所述支撑架(22)围绕所述底座(21)设置,所述Z轴移动模块(13)设置于所述底座(21)之上,所述三轴运动机构(12)设置于所述支撑架(22)之上并处于所述Z轴移动模块(13)的上方。
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