[发明专利]一种荫罩及其制造方法有效
| 申请号： | 201711139437.3 | 申请日： | 2017-11-16 |
| 公开（公告）号： | CN108123067B | 公开（公告）日： | 2019-05-31 |
| 发明（设计）人： | 居宇涵;陈雪峰 | 申请（专利权）人： | 上海视涯信息科技有限公司 |
| 主分类号： | H01L51/56 | 分类号： | H01L51/56;H01L51/00 |
| 代理公司： | 上海恒锐佳知识产权代理事务所(普通合伙) 31286 | 代理人： | 黄海霞 |
| 地址： | 201206 上海市*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明提供一种荫罩，包括硅基板、贯穿所述硅基板的狭缝以及所述狭缝之间的支撑部，所述荫罩包括第一表面及第二表面；在所述荫罩的第一表面，所述狭缝具有第一宽度X，在所述荫罩的第二表面，所述狭缝具有第二宽度Y，其中，X＜Y。本发明提供的荫罩可以改善蒸镀工艺中的阴影效应不良。另外，本发明还提供上述荫罩的形成方法。 | ||
| 搜索关键词： | 荫罩 狭缝 第二表面 第一表面 硅基板 阴影效应 蒸镀 贯穿 支撑 制造 | ||
【主权项】：
1.一种荫罩，其特征在于，所述荫罩包括硅基板、贯穿所述硅基板的狭缝以及所述狭缝之间的支撑部，所述荫罩包括第一表面及第二表面；在所述荫罩的第一表面，所述狭缝具有第一宽度X，在所述荫罩的第二表面，所述狭缝具有第二宽度Y，其中，X＜Y；所述支撑部掺杂有硼离子，并且，从所述第一表面方向至所述第二表面方向，所述掺杂的硼离子的浓度逐渐降低。
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