[发明专利]阳极靶、射线光源、计算机断层扫描设备及成像方法有效
| 申请号： | 201711136934.8 | 申请日： | 2017-09-18 |
| 公开（公告）号： | CN107731644B | 公开（公告）日： | 2019-10-18 |
| 发明（设计）人： | 谭承君;黄文会;唐传祥;靳清秀;张东生;罗群;刘东海;张路明;吴沛东 | 申请（专利权）人： | 同方威视技术股份有限公司;清华大学 |
| 主分类号： | H01J35/08 | 分类号： | H01J35/08 |
| 代理公司： | 北京律智知识产权代理有限公司 11438 | 代理人： | 阚梓瑄;王卫忠 |
| 地址： | 100084 北京*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本申请公开一种阳极靶、射线光源、计算机断层扫描设备及成像方法。涉及射线处理技术领域，该阳极靶包括：多个靶结构，用于接收由阴极发射出的电子束，以产生射线，所述多个靶点为具有斜面的立体结构；铜冷却体，用于承载所述靶点，所述铜冷却体包括无氧铜冷却体；冷却油管，用于对阳极靶进行冷却；以及屏蔽层，用于产生屏蔽作用，所述屏蔽层包括钨屏蔽层。本申请的阳极靶、射线光源、计算机断层扫描设备及成像方法，能够使得阳极靶上所有的靶点均分布在一条直线上，提高射线系统的成像质量，简化成像系统的复杂性。 | ||
| 搜索关键词： | 阳极 射线 光源 计算机 断层 扫描 设备 成像 方法 | ||
【主权项】：
1.一种阳极靶，其特征在于，包括：多个靶结构，用于接收由阴极发射出的电子束，以产生射线，所述多个靶结构为具有斜面的立体结构；铜冷却体，用于承载所述靶结构，所述铜冷却体包括无氧铜冷却体；冷却油管，用于对阳极靶进行冷却；以及屏蔽层，用于产生屏蔽作用，所述屏蔽层包括钨屏蔽层；其中所述多个靶结构中的相邻两个靶结构之间交错放置，交错放置的所述多个靶结构的靶点中心处于同一直线，所述多个靶结构中的相邻两个靶结构的斜面在各自靶点中心处的法线分别位于所述直线所在的垂直于铜冷却体上表面的平面的两侧。
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