[发明专利]后处理装置以及控制方法在审
| 申请号： | 201711135467.7 | 申请日： | 2017-11-15 |
| 公开（公告）号： | CN108333889A | 公开（公告）日： | 2018-07-27 |
| 发明（设计）人： | 石井润 | 申请（专利权）人： | 株式会社东芝;东芝泰格有限公司 |
| 主分类号： | G03G15/00 | 分类号： | G03G15/00;B65H29/18;B65H31/00 |
| 代理公司： | 北京康信知识产权代理有限责任公司 11240 | 代理人： | 梁丽超;田喜庆 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明的实施方式公开了后处理装置以及控制方法。实施方式的后处理装置包括驱动部、传感器、参数决定部以及驱动控制部。驱动部对用于排出片材的机构进行驱动。传感器检测排出的片材。参数决定部基于所述传感器的检测结果，决定所述驱动部的参数。驱动控制部基于由所述参数决定部决定的所述参数，控制所述驱动部。 | ||
| 搜索关键词： | 参数决定部 后处理装置 驱动 驱动控制部 传感器 传感器检测 检测结果 排出片材 排出 片材 | ||
【主权项】：
1.一种后处理装置，其特征在于，包括：驱动部，对用于排出片材的机构进行驱动；传感器，检测排出的片材；参数决定部，基于所述传感器的检测结果，决定所述驱动部的参数；以及驱动控制部，基于由所述参数决定部决定的所述参数，控制所述驱动部。
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