[发明专利]后处理装置以及控制方法在审
| 申请号： | 201711135467.7 | 申请日： | 2017-11-15 |
| 公开（公告）号： | CN108333889A | 公开（公告）日： | 2018-07-27 |
| 发明（设计）人： | 石井润 | 申请（专利权）人： | 株式会社东芝;东芝泰格有限公司 |
| 主分类号： | G03G15/00 | 分类号： | G03G15/00;B65H29/18;B65H31/00 |
| 代理公司： | 北京康信知识产权代理有限责任公司 11240 | 代理人： | 梁丽超;田喜庆 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 参数决定部 后处理装置 驱动 驱动控制部 传感器 传感器检测 检测结果 排出片材 排出 片材 | ||
1.一种后处理装置，其特征在于，包括：
驱动部，对用于排出片材的机构进行驱动；
传感器，检测排出的片材；
参数决定部，基于所述传感器的检测结果，决定所述驱动部的参数；以及
驱动控制部，基于由所述参数决定部决定的所述参数，控制所述驱动部。
2.根据权利要求1所述的后处理装置，其特征在于，
所述后处理装置还包括输送辊，所述输送辊根据所述驱动部的驱动而旋转，从而将所述片材排出到排出托盘上。
3.根据权利要求1所述的后处理装置，其特征在于，
所述后处理装置还包括排出爪，所述排出爪根据所述驱动部的驱动而移动，从而将所述片材排出到排出托盘上。
4.根据权利要求1所述的后处理装置，其特征在于，
所述参数决定部以使排出的片材到达预定的基准位置的方式决定参数。
5.根据权利要求4所述的后处理装置，其特征在于，
所述参数决定部在获得表示排出的片材的到达位置比所述基准位置远的传感器输出的情况下，以使到达位置更近的方式决定参数。
6.根据权利要求4所述的后处理装置，其特征在于，
所述参数决定部在获得表示排出的片材的到达位置比所述基准位置近的传感器输出的情况下，以使到达位置更远的方式决定参数。
7.根据权利要求1所述的后处理装置，其特征在于，
所述参数决定部基于从片材被排出开始直到片材的前端到达规定的位置为止的时间的实测值、以及从片材前端到达规定位置开始直到片材在排出托盘上滑落而使片材前端通过规定位置为止的时间的实测值，决定参数。
8.根据权利要求1所述的后处理装置，其特征在于，
所述参数决定部基于从片材前端到达规定的位置开始直到片材在排出托盘上滑落而使片材前端通过规定位置为止的时间的实测值，决定参数。
9.根据权利要求1所述的后处理装置，其特征在于，
所述参数决定部将在所述片材被排出时输送片材的输送辊的旋转速度或者旋转时间决定作为参数。
10.一种控制方法，所述控制方法由后处理装置执行，所述后处理装置包括：驱动部，对用于排出片材的机构进行驱动；以及传感器，检测排出的片材，所述控制方法的特征在于，包括：
基于所述传感器的检测结果，决定所述驱动部的参数；以及
基于决定的所述参数，控制所述驱动部。
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