[发明专利]一种低价态氧化锆光学镀膜材料及制备方法在审
| 申请号： | 201711124597.0 | 申请日： | 2017-11-14 |
| 公开（公告）号： | CN107840657A | 公开（公告）日： | 2018-03-27 |
| 发明（设计）人： | 秦海波 | 申请（专利权）人： | 北京富兴凯永兴光电技术有限公司 |
| 主分类号： | C04B35/48 | 分类号： | C04B35/48;C04B35/65;H04M1/02;H04M1/18;G02B1/10 |
| 代理公司： | 北京市商泰律师事务所11255 | 代理人： | 毛燕生 |
| 地址： | 102629 北*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 一种低价态氧化锆光学镀膜材料及制备方法，属于光学镀膜材料技术领域。含有以下步骤；按二氧化锆与金属锆粉的摩尔比ZrO250～90,金属锆粉10～50的比例进行配料及混合，造粒或压片，真空状态下烧结，烧结温度在1350℃～2000℃之间，形成导电性良好的低价氧化锆。本发明的优点是采用低价态氧化锆，在二氧化锆中添加金属锆粉或含金属锆粉的材料，随着金属锆含量的增大，混合物的熔点也随之降低。同时，由于二氧化锆在低于1000℃不导电，在制造ZrO2靶材料时，要求ZrO2有导电性能，因而，在ZrO2中引入一定的Zr，又可生成导电性的ZrOx,解决靶材生产中的导电性问题。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 低价 氧化锆 光学 镀膜 材料 制备 方法 | ||
【主权项】：
一种低价态氧化锆光学镀膜材料，其特征在于二氧化锆与金属锆粉的摩尔配比：ZrO2:50～90,金属锆粉：10～50。
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