[发明专利]一种平面光栅干涉仪位移测量系统有效
申请号: | 201711116885.1 | 申请日: | 2017-11-13 |
公开(公告)号: | CN108106536B | 公开(公告)日: | 2023-10-10 |
发明(设计)人: | 朱煜;王磊杰;张鸣;夏野;成荣;叶伟楠;杨开明;倪畅;丁思奇;贾喆;李情情;王雨竹 | 申请(专利权)人: | 清华大学;北京华卓精科科技股份有限公司 |
主分类号: | G01B11/02 | 分类号: | G01B11/02;G01B9/02015;G01D5/26;G01D5/38 |
代理公司: | 北京鸿元知识产权代理有限公司 11327 | 代理人: | 邸更岩 |
地址: | 100084 北京市海淀区1*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 一种平面光栅干涉仪位移测量系统,包括单频激光器、分束器、声光调制器、光栅干涉仪、平面光栅、接收器、电子信号处理部件、光纤耦合器和频率合成器;光栅干涉仪包括偏振分光镜、折光元件,直角棱镜和四分之一波片;该测量系统基于光栅衍射、光学多普勒效应和光学拍频原理实现位移测量。当光栅干涉仪与平面光栅做二自由度线性相对运动时,系统可输出二个线性位移。该测量系统能够实现亚纳米甚至更高分辨率及精度,且能够同时测量二个线性位移;该测量系统具有测量精度高、结构简单优点,作为光刻机超精密工件台位置测量系统可提升工件台综合性能。 | ||
搜索关键词: | 一种 平面 光栅 干涉仪 位移 测量 系统 | ||
【主权项】:
1.一种平面光栅干涉仪位移测量系统,包括单频激光器(1)、分束器(2a、2b、2c)、光栅干涉仪(3)、平面光栅(4)、声光调制器(5a、5b)、接收器(6)、电子信号处理部件(7)、光纤耦合器(8)和频率合成器(9);其特征在于:光栅干涉仪(3)包括偏振分光镜(31)、折光元件(32)、第一直角棱镜(33)、第二直角棱镜(34)和第三直角棱镜(35)、四分之一波片(36);其中第一直角棱镜(33)位于偏振分光镜(31)顶端,第二直角棱镜(34)与第三直角棱镜(35)并排放置在偏振分光镜(31)的底端;单频激光器(1)出射的单频激光经分束器(2a)分光后,分别经过由频率合成器(9)供源的第一声光调制器(5a)和第二声光调制器(5b)进行调制后,分别经第二分束器(2b)和第三分束器(2c)分光后,其中,经第二分束器(2b)分出的一束激光和第三分束器(2c)分出的一束激光经光纤耦合器(8)进行干涉后,作为补偿轴信号输入至接收器(6),处理后形成一路电信号输入至电子信号处理部件(7);另外两束激光则入射至偏振分光镜(31)后分光,两束反射光为参考光,两束透射光为测量光;所述两束测量光第一次经四分之一波片(36)和折光元件(32)后以利特罗角入射至平面光栅(4),反射后第二次经折光元件(32)和四分之一波片(36)入射至偏振分光镜(31),反射后两束测量光分别经过第二直角棱镜(34)和第三直角棱镜(35),回射至偏振分光镜(31),再次反射后经折光元件(32)和四分之一波片(36)后再次以利特罗角入射至平面光栅(4),反射后再次经折光元件(32)和四分之一波片(36)后入射至偏振分光镜,透射后两束测量光平行出射;所述两束参考光经第一直角棱镜(33)后回射至偏振分光镜(31),反射后两束参考光平行出射;其中一束参考光和一束测量光干涉形成一路干涉光信号,另一束参考光和另一束测量光干涉形成另一路干涉光信号,两路干涉光信号分别经光纤传输至接收器(6)进行处理分别形成两路测量电信号,两路测量电信号输入至电子信号处理部件(7)进行处理。
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