[发明专利]投射装置及投射型显示装置有效
申请号: | 201711089288.4 | 申请日: | 2014-06-19 |
公开(公告)号: | CN107948622B | 公开(公告)日: | 2019-09-10 |
发明(设计)人: | 仓重牧夫 | 申请(专利权)人: | 大日本印刷株式会社 |
主分类号: | H04N9/31 | 分类号: | H04N9/31;H04N13/337;H04N13/363;G03B35/26;G03B21/20;G02B27/48 |
代理公司: | 北京三友知识产权代理有限公司 11127 | 代理人: | 李辉;黄纶伟 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 提供投射装置及投射型显示装置。投射装置(20)具有:光学元件(50),其包括第1区域(Z1)和第2区域(Z2),使入射至各区域的光扩散;照射装置(60),其以时分方式对光学元件的第1区域和第2区域照射光;偏振控制单元(70),其配置在相对于配置有光学元件的面(A)共轭的共轭面(B)上;以及空间光调制器(30),其配置在从光学元件到偏振控制单元的光路中,被第1区域所扩散的光以及第2区域所扩散的光照明。偏振控制单元以如下方式控制光的偏振状态,使被第1区域扩散的光成为第1偏振成分的光,而且使被第2区域扩散的光成为与第1偏振成分不同的第2偏振成分的光。 | ||
搜索关键词: | 投射 装置 显示装置 | ||
【主权项】:
1.一种投射装置,具有:光学元件,其包括多个第1区域和多个第2区域,使入射至各区域的光扩散;照射装置,其以时分方式对所述光学元件的所述第1区域和所述第2区域照射光;偏振控制单元,其配置在相对于配置有所述光学元件的面共轭的共轭面上;以及空间光调制器,其配置在从所述光学元件到所述偏振控制单元的光路中,被所述光学元件的所述多个第1区域分别所扩散的光照明,而且被所述光学元件的所述多个第2区域分别所扩散的光照明,所述偏振控制单元以如下方式控制光的偏振状态:使被所述光学元件的所述第1区域扩散、然后从所述空间光调制器出来的光成为第1偏振成分的光,而且使被所述光学元件的所述第2区域扩散、然后从所述空间光调制器出来的光成为与所述第1偏振成分不同的第2偏振成分的光。
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