[发明专利]用于双面抛光机的齿圈升降装置在审
申请号: | 201711058571.0 | 申请日: | 2017-11-01 |
公开(公告)号: | CN107877365A | 公开(公告)日: | 2018-04-06 |
发明(设计)人: | 戴瑜兴;杨佳葳;杨宇;蒋罗雄 | 申请(专利权)人: | 湖南宇晶机器股份有限公司 |
主分类号: | B24B41/00 | 分类号: | B24B41/00 |
代理公司: | 长沙明新专利代理事务所(普通合伙)43222 | 代理人: | 徐新 |
地址: | 413001 湖南省益*** | 国省代码: | 湖南;43 |
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摘要: | 用于双面抛光机的齿圈升降装置,包括左升降装置和右升降装置;所述左升降装置包括抬升气囊、抬升摆杆、主轴和齿圈支撑座,所述抬升气囊与抬升摆杆相连接,所述主轴的上端与齿圈支撑座相连接,所述主轴的下端与抬升摆杆相接触;所述右升降装置的结构同左升降装置,所述右升降装置与左升降装置对称布置,且右升降装置的抬升摆杆与左升降装置的抬升摆杆通过同步杆相连接。本发明结构简单,操纵控制方便,升降平稳,可以广泛应用于研磨抛光机齿圈的抬升控制。 | ||
搜索关键词: | 用于 双面 抛光机 升降 装置 | ||
【主权项】:
用于双面抛光机的齿圈升降装置,其特征在于:包括左升降装置和右升降装置;所述左升降装置包括抬升气囊、抬升摆杆、主轴和齿圈支撑座,所述抬升气囊与抬升摆杆相连接,所述主轴的上端与齿圈支撑座相连接,所述主轴的下端与抬升摆杆相接触;所述右升降装置的结构同左升降装置,所述右升降装置与左升降装置对称布置,且右升降装置的抬升摆杆与左升降装置的抬升摆杆通过同步杆相连接。
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