[发明专利]一种柔性红外超材料的制备方法在审
| 申请号： | 201711049691.4 | 申请日： | 2017-10-31 |
| 公开（公告）号： | CN107608011A | 公开（公告）日： | 2018-01-19 |
| 发明（设计）人： | 周佩珩;牛健宗;刘彦宁;陈海燕;陆海鹏;邓龙江 | 申请（专利权）人： | 电子科技大学 |
| 主分类号： | G02B1/00 | 分类号： | G02B1/00;G03F7/00;B81C1/00 |
| 代理公司： | 电子科技大学专利中心51203 | 代理人： | 闫树平 |
| 地址： | 611731 四川省成*** | 国省代码： | 四川;51 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明属于红外人工电磁超材料领域，具体涉及一种柔性红外超材料的制备方法。本发明首先在硅片上旋涂一层光刻胶作为牺牲层，然后在其上光刻加工获得所需的周期结构图形，再通过镀膜获得所需周期结构，最后用PDMS将周期结构从硅基底表面逆向剥离转移下来，即制得以柔性PDMS材料为基底的三明治结构柔性红外超材料。本发明比传统的工艺，工艺实现流程更为简单，工艺周期更短，普适性高。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 柔性 红外 材料 制备 方法 | ||
【主权项】：
一种柔性红外超材料的制备方法，包括以下步骤：步骤1、清洗硅基片；步骤2、在清洗后的硅基片上通过甩胶工艺制备一层光刻胶牺牲层，牺牲层厚度在0.8～1.5um；步骤3、在牺牲层上用反转光刻胶制作所需的周期结构图形；步骤4、在步骤3制得的硅基片图形化一面，沉积获得所需的周期结构薄膜；步骤5、通过液态聚二甲基硅氧烷PDMS将步骤4制备的周期结构薄膜从硅基底上转移下来，即得到所需周期结构薄膜的柔性红外超材料。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于电子科技大学，未经电子科技大学许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201711049691.4/，转载请声明来源钻瓜专利网。
