[发明专利]一种区熔硅抛光片用抛光设备的清洗方法在审
| 申请号： | 201711048058.3 | 申请日： | 2017-10-31 |
| 公开（公告）号： | CN107855936A | 公开（公告）日： | 2018-03-30 |
| 发明（设计）人： | 魏艳军;由佰玲;吕莹;武卫;徐荣清 | 申请（专利权）人： | 天津中环领先材料技术有限公司 |
| 主分类号： | B24B53/017 | 分类号： | B24B53/017;C11D3/60;C11D3/20;C11D3/39;C11D3/04 |
| 代理公司： | 天津滨海科纬知识产权代理有限公司12211 | 代理人： | 李纳 |
| 地址： | 300384 天津市滨海新区*** | 国省代码： | 天津;12 |
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| 摘要： | 本发明提供一种区熔硅抛光片用抛光设备的清洗方法，所述抛光设备的清洗方法是先采用海绵头配合清洗液进行清洗，然后采用去离子水冲洗，最后用抛光液淋洗。相对于现有技术，本发明创造所述的区熔硅抛光片用抛光设备的清洗方法具有以下优势本发明所述的清洗方法可以有效清洗抛光片用抛光设备上的各种残留，大大降低对后续工艺的干扰，进而能够有效防止对硅片抛光程序对硅片表面的损伤，减少抛光过程中的坏片，有效提高了清洗效率和产品良率，间接增加了产品收益。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 区熔硅 抛光 设备 清洗 方法 | ||
【主权项】：
一种区熔硅抛光片用抛光设备的清洗方法，其特征在于：所述抛光设备的清洗方法是先采用海绵头配合清洗液进行清洗，然后采用去离子水冲洗，最后用抛光液淋洗。
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