[发明专利]一种激光双光束干涉光刻系统在审
| 申请号： | 201711012685.1 | 申请日： | 2017-10-25 |
| 公开（公告）号： | CN107643656A | 公开（公告）日： | 2018-01-30 |
| 发明（设计）人： | 严伟;高洪涛;田鹏;李凡星;彭伏平;刘俊伯;何渝;杨帆;吴云飞 | 申请（专利权）人： | 中国科学院光电技术研究所 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G02B26/08 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 610209 *** | 国省代码： | 四川;51 |
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| 摘要： | 本发明公开一种激光双光束干涉光刻系统，结合激光场调制技术，通过一次曝光或者多次曝光实现大面积、多样化周期结构和复杂结构的快速纳米尺度的加工。该系统包括利用数字微镜元件实现光线选通，空间光调制器或者变形镜调制一路入射光相位，控制调制光和参考光入射空间角，大大增加干涉光束入射角调节自由度和范围，为获得干涉图样的多样性提供了基础。通过本发明的双光束干涉光刻系统，可以在光刻胶上制备周期性或者复杂结构大面积快速纳米结构。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 激光 光束 干涉 光刻 系统 | ||
【主权项】：
一种激光双光束干涉光刻系统，其特征在于：包括He‑cd激光器(11)、准直透镜(12)、数字微镜元件(DMD)(13)、分光光栅(14)、第一反射镜(15)、6维移动平台(16)、基片(17)、第二反射镜(18)和空间光调制器(SLM)(19)，通过计算机控制数字微镜元件(DMD)(13)和空间光调制器(SLM)(19)，配合机械臂控制反射镜控制干涉光束入射角；He‑cd激光器(11)的激光束通过准直透镜(12)准直后再经过扩束和滤波之后，经过数字微镜元件(DMD)(13)对入射光强度进行调制，经数字微镜元件(DMD)(13)调制反射后进入分光光栅(14)，一路作为参考光通过第一反射镜(15)入射到基片(17)上，一路作为调制光先进入空间光调制器(SLM)(19)进行相位波形调制，然后通过第二反射镜(18)入射到基片(17)上与参考光产生干涉；第一反射镜(15)与第二反射镜(18)两面反射镜分别固定在两个不同机械臂上，空间光调制器(SLM)(19)固定在调制光路机械臂上，与第二反射镜(18)同轴安装，确保空间光调制器(SLM)(19)出射光能够到达第二反射镜(18)。
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