[发明专利]一种激光双光束干涉光刻系统

权利要求书

1.一种激光双光束干涉光刻系统，其特征在于：包括He-cd激光器(11)、准直透镜(12)、数字微镜元件(DMD)(13)、分光光栅(14)、第一反射镜(15)、6维移动平台(16)、基片(17)、第二反射镜(18)和空间光调制器(SLM)(19)，通过计算机控制数字微镜元件(DMD)(13)和空间光调制器(SLM)(19)，配合机械臂控制反射镜控制干涉光束入射角；

He-cd激光器(11)的激光束通过准直透镜(12)准直后再经过扩束和滤波之后，经过数字微镜元件(DMD)(13)对入射光强度进行调制，经数字微镜元件(DMD)(13)调制反射后进入分光光栅(14)，一路作为参考光通过第一反射镜(15)入射到基片(17)上，一路作为调制光先进入空间光调制器(SLM)(19)进行相位波形调制，然后通过第二反射镜(18)入射到基片(17)上与参考光产生干涉；

第一反射镜(15)与第二反射镜(18)两面反射镜分别固定在两个不同机械臂上，空间光调制器(SLM)(19)固定在调制光路机械臂上，与第二反射镜(18)同轴安装，确保空间光调制器(SLM)(19)出射光能够到达第二反射镜(18)。

2.根据权利要求1所述的激光双光束干涉光刻系统，其特征在于：所述He-cd激光器(11)输出激光束为325nm波长。

3.根据权利要求1所述的激光双光束干涉光刻系统，其特征在于：通过计算机控制数字微镜元件(DMD)(13)间隔选通和空间光调制器(SLM)(19)调制波形。

4.根据权利要求1所述的激光双光束干涉光刻系统，其特征在于：第二反射镜(18)和空间光调制器(SLM)(19)同轴安装在同一个机械臂上，通过机械臂控制调制光的入射角度，第一反射镜(15)固定在另外一条机械臂上，用于任意调节参考光的入射角度。

5.根据权利要求1所述的激光双光束干涉光刻系统，其特征在于：干涉图样由参考光入射角、调制光入射角、调制波形和曝光次数共同决定，干涉图样的多自由度保证了干涉图像的多样性。

6.一种激光双光束干涉光刻系统，其特征在于：包括He-cd激光器(11)、准直透镜(12)、数字微镜元件(DMD)(13)、半反半透镜(20)、第三反射镜(21)、6维移动平台(16)、第四反射镜(22)和变形镜(23)；

He-cd激光器(11)发出的激光束通过准直透镜(12)扩束后，经过数字微镜元件(DMD)(13)强度调制反射后，进入半反半透镜(20)，产生反射光为参考光，产生折射光为调制光，调制器件为变形镜(23)；

第三反射镜(21)与两面反射镜分别固定在两可旋转的机械臂上，用于调节入射光的入射角度，确保参考光和调制光在基片上产生干涉。

7.根据权利要求6所述的激光双光束干涉光刻系统，其特征在于：所述系统还包括一系列滤波光阑和一个视场光阑。

8.根据权利要求6所述的激光双光束干涉光刻系统，其特征在于：所述系统变形镜(23)由计算机直接控制。