[发明专利]一种基于二维二硫化钼-二硫化铼异质结的光电子器件、制备方法及应用有效
申请号: | 201710985169.0 | 申请日: | 2017-10-20 |
公开(公告)号: | CN107833940B | 公开(公告)日: | 2020-06-30 |
发明(设计)人: | 吕斌;徐易扬;叶志镇 | 申请(专利权)人: | 浙江大学 |
主分类号: | H01L31/109 | 分类号: | H01L31/109;H01L31/18 |
代理公司: | 杭州天勤知识产权代理有限公司 33224 | 代理人: | 胡红娟 |
地址: | 310013 浙江*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: |
本发明公开了一种基于二维MoS |
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搜索关键词: | 一种 基于 二维 二硫化钼 硫化 铼异质结 光电子 器件 制备 方法 应用 | ||
【主权项】:
一种基于二维MoS2‑ReS2异质结的光电子器件,其特征在于,包括:N型本证衬底层;设置于所述N型本证衬底层上的绝缘层;设置于所述绝缘层上的MoS2层和ReS2层,所述MoS2层与所述ReS2层范德瓦尔斯接触,形成MoS2‑ReS2异质结;设置于所述ReS2层的第一金属过渡层,设置在所述MoS2层上的第二金属过渡层;以及,设置于所述第一过渡金属层和第二过渡金属层上的电极层;所述MoS2层为MoS2单晶层,所述ReS2层包括3~10层ReS2单晶层;所述第一金属过渡层的材料与多数第二金属过渡层的材料不同。
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H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
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