[发明专利]一种基于二维二硫化钼-二硫化铼异质结的光电子器件、制备方法及应用有效

专利信息
申请号: 201710985169.0 申请日: 2017-10-20
公开(公告)号: CN107833940B 公开(公告)日: 2020-06-30
发明(设计)人: 吕斌;徐易扬;叶志镇 申请(专利权)人: 浙江大学
主分类号: H01L31/109 分类号: H01L31/109;H01L31/18
代理公司: 杭州天勤知识产权代理有限公司 33224 代理人: 胡红娟
地址: 310013 浙江*** 国省代码: 浙江;33
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明公开了一种基于二维MoS2‑ReS2异质结的光电子器件,包括:N型本证衬底层;设置于所述N型本证衬底层上的绝缘层;设置于所述绝缘层上的MoS2层和ReS2层,所述MoS2层与所述ReS2层范德瓦尔斯接触,形成MoS2‑ReS2异质结;设置于所述ReS2层的第一金属过渡层,设置在所述MoS2层上的第二金属过渡层;以及,设置于所述第一过渡金属层和第二过渡金属层上的电极层;所述MoS2层为MoS2单晶层,所述ReS2层包括3~10层ReS2单晶层;所述第一金属过渡层的材料与多数第二金属过渡层的材料不同。还公开了一种制备上述光电子器件的方法。该光电子器件具有极低漏电流,高开关比,极强弱光探测性能。
搜索关键词: 一种 基于 二维 二硫化钼 硫化 铼异质结 光电子 器件 制备 方法 应用
【主权项】:
一种基于二维MoS2‑ReS2异质结的光电子器件,其特征在于,包括:N型本证衬底层;设置于所述N型本证衬底层上的绝缘层;设置于所述绝缘层上的MoS2层和ReS2层,所述MoS2层与所述ReS2层范德瓦尔斯接触,形成MoS2‑ReS2异质结;设置于所述ReS2层的第一金属过渡层,设置在所述MoS2层上的第二金属过渡层;以及,设置于所述第一过渡金属层和第二过渡金属层上的电极层;所述MoS2层为MoS2单晶层,所述ReS2层包括3~10层ReS2单晶层;所述第一金属过渡层的材料与多数第二金属过渡层的材料不同。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于浙江大学,未经浙江大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201710985169.0/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top