[发明专利]测量和校正系统的非理想性有效
| 申请号： | 201710967761.8 | 申请日： | 2017-10-18 |
| 公开（公告）号： | CN107959499B | 公开（公告）日： | 2021-06-29 |
| 发明（设计）人： | E·奥特 | 申请（专利权）人： | 美国亚德诺半导体公司 |
| 主分类号： | H03M1/10 | 分类号： | H03M1/10 |
| 代理公司： | 中国贸促会专利商标事务所有限公司 11038 | 代理人： | 张鑫 |
| 地址： | 美国马*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本公开提供了测量和校正系统的非理想性。许多系统实施校准方案来测量和校正非理想性。这样的系统可能是复杂的，这使得它们不实际执行，因为成本可能超过校准方案的好处。为了实现高效和有效的校准，基于例如输出信号与不相关的随机信号的相关性，以分段方式在前景或背景中检测非理想性或系统的误差，其中相关结果针对误差信号的不同开放间隔单独处理。二阶和三阶校正项可以根据三个开放间隔轻松确定。在各种实施方案中，校准方案可以检测和纠正线性误差(线性和非线性)存储器/频率依赖性误差、静态非线性误差、Hammerstein型非线性误差和Wiener型非线性误差(交叉项)。 | ||
| 搜索关键词： | 测量 校正 系统 理想 | ||
【主权项】：
一种用于确定系统的校正项的方法，该方法包括：除去在所述系统中注入的伪随机信号以获得误差信号；执行所述误差信号与所述伪随机信号的相关；和基于误差信号的不同开放间隔积累的相关性来更新校正项。
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