[发明专利]一种氧化物忆阻器的全溶液制备方法有效

专利信息
申请号: 201710966487.2 申请日: 2017-10-17
公开(公告)号: CN107946459B 公开(公告)日: 2021-10-19
发明(设计)人: 王敬蕊;诸葛飞;郑秀;曹鸿涛 申请(专利权)人: 宁波工程学院;中国科学院宁波材料技术与工程研究所
主分类号: H01L45/00 分类号: H01L45/00
代理公司: 杭州宇信知识产权代理事务所(普通合伙) 33231 代理人: 张宇娟
地址: 315211 浙*** 国省代码: 浙江;33
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摘要: 发明公开了一种氧化物忆阻器的全溶液制备方法,所述氧化物忆阻器由下至上依次包括衬底、底电极层、中间介质层、以及顶电极层,其中所述底电极层的材料为AZO导电薄膜,厚度为50~300nm;所述中间介质层的材料为ZnO,厚度为20~100nm;所述顶电极层的材料为石墨烯薄膜,厚度为20~200nm。所述全溶液法制备氧化物忆阻器包括三个主要步骤:溶胶‑凝胶法在清洗后的衬底上制备AZO底电极层,在底电极层上沉积ZnO中间介质层,抽滤法在AZO中间介质层上沉积石墨烯顶电极层。本发明通过全溶液方法制得忆阻器,大大降低了制备忆阻器的成本,且工艺简单,适合大规模工业化。
搜索关键词: 一种 氧化物 忆阻器 溶液 制备 方法
【主权项】:
一种全溶液法制备氧化物忆阻器的方法,其特征在于,包括以下步骤:步骤1,采用溶胶‑凝胶法在清洗后的衬底上制备AZO底电极层;步骤2,采用溶胶‑凝胶法在底电极层上沉积ZnO中间介质层;步骤3,采用抽滤法在AZO中间介质层上沉积石墨烯顶电极层。
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