[发明专利]用于制造偏光膜的方法和系统有效
| 申请号： | 201710947289.1 | 申请日： | 2017-10-12 |
| 公开（公告）号： | CN107608018B | 公开（公告）日： | 2022-03-11 |
| 发明（设计）人： | 徐维廷;郭建生 | 申请（专利权）人： | 住友化学股份有限公司 |
| 主分类号： | G02B5/30 | 分类号： | G02B5/30;G02F1/1335 |
| 代理公司： | 北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006 | 代理人： | 梁挥;鲍俊萍 |
| 地址： | 日本国东京都*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 一种用于制造偏光膜的系统，包括多个处理设备。该些处理设备用于对一偏光膜前驱物进行处理，以形成一偏光膜。该些处理设备包含一处理槽，处理槽中具有一槽液，该槽液中含有碘离子。该槽液位于一照光环境和一气氛环境至少一者中，使得偏光膜前驱物在通过该处理槽时，槽液所处的照光环境系在波长不小于等于430nm的光之中，且/或槽液所处的气氛环境为非氧化性气氛。以控制槽液中碘离子含量。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 制造 偏光 方法 系统 | ||
【主权项】：
一种用于制造偏光膜的系统，其特征在于，包括：多个处理设备，用于对一偏光膜前驱物进行处理，以形成一偏光膜；其中，该些处理设备包含一处理槽，该处理槽中具有一槽液，该槽液中含有碘离子，该槽液位于一照光环境和一气氛环境至少一者中，使得该偏光膜前驱物在通过该处理槽时，该槽液所处的该照光环境系在波长不小于等于430nm的光之中，且/或该槽液所处的该气氛环境为非氧化性气氛。
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