[发明专利]用于制造偏光膜的方法和系统

权利要求书

1.一种用于制造偏光膜的系统，其特征在于，包括：

多个处理设备，用于对一偏光膜前驱物进行处理，以形成一偏光膜；

其中，该些处理设备包含一处理槽，该处理槽中具有一槽液，该槽液中含有碘离子，该槽液被设置成，使得该偏光膜前驱物在通过该处理槽时，该槽液所处的一照光环境系在波长500nm～780nm的光之中，

所述处理槽选自于由一染色槽、一交联槽及一补色槽所组成的群组。

2.根据权利要求1所述的系统，其特征在于，该槽液被设置成，使得该偏光膜前驱物在通过该处理槽时，该槽液所处的一气氛环境为非氧化性气氛。

3.一种用于制造偏光膜的系统，其特征在于，包括：

多个处理设备，用于对一偏光膜前驱物进行处理，以形成一偏光膜，该些处理设备包括一处理槽；以及

一外部桶槽，与该处理槽连通，该外部桶槽中具有一槽液，该槽液中含有碘离子，该槽液被设置成，使得该槽液所处的一照光环境在波长500nm～780nm的光之中。

4.根据权利要求3所述的系统，其特征在于，该槽液被设置成，使得该槽液所处的一气氛环境为非氧化性气氛。

5.根据权利要求1或3所述的系统，其特征在于，该照光环境系在波长550nm～780nm的光之中。

6.根据权利要求2或4所述的系统，其特征在于，该非氧化性气氛为氮气气氛和/或惰性气体气氛，且/或该非氧化性气氛的通气量为5L/min～100L/min。

7.根据权利要求2或4所述的系统，其特征在于，该气氛环境的一控制气压大于一环境气压。

8.根据权利要求7所述的系统，其特征在于，该控制气压和该环境气压的压差为1Pa～30Pa。

9.根据权利要求1或3所述的系统，其特征在于，包括一或更多个光源，该光源发出波长为550nm～780nm的光以制造该照光环境，且/或该光源的照度为150～1000流明，且/或该一或更多个光源的数量为20～60个，且/或该光源距离该槽液的垂直高度为2～10米。

10.根据权利要求2或4所述的系统，其特征在于，该气氛环境具有一第一体积，该槽液具有一第二体积，该第一体积除以该第二体积的比例介于0.01和0.5之间。

11.根据权利要求1或3所述的系统，其特征在于，包括一桶槽盖，该桶槽盖包括气体通入口，该桶槽盖并提供气体排出口。

12.根据权利要求1或3所述的系统，其特征在于，该槽液更含有一还原剂，该还原剂为重量百分比为10％的水溶液，且该还原剂通入该槽液的流量为0.1L/min～1L/min。

13.一种用于制造偏光膜的方法，其特征在于，包括：

使一偏光膜前驱物通过多个处理设备，以形成一偏光膜，其中，该些处理设备包含一处理槽，该处理槽中具有一槽液，该槽液中含有碘离子；以及

控制该槽液，使得该偏光膜前驱物在通过该处理槽时，该槽液所处的一照光环境系在波长500nm～780nm的光之中，

所述处理槽选自于由一染色槽、一交联槽及一补色槽所组成的群组。

14.根据权利要求13所述的方法，其特征在于，该方法还包括控制该槽液，使得该偏光膜前驱物在通过该处理槽时，使该槽液所处的一气氛环境为非氧化性气氛。

15.根据权利要求13所述的方法，其特征在于，在该偏光膜前驱物通过该处理槽时，使该槽液接受波长为550nm～780nm的光照射。