[发明专利]光酸产生化合物和相关聚合物、光致抗蚀剂组合物以及形成光致抗蚀剂浮雕图像的方法

摘要

一种光酸产生化合物具有以下结构其中m、n、R1、R2、X、Y和Z‑如本文所定义。所述光酸产生化合物展现对远紫外线辐射的强吸收和化学敏感性，同时还在期望降低的化学敏感性下吸收更长的波长。也描述一种并有所述光酸产生化合物的可聚合型式的残基的聚合物；一种包括所述光酸产生化合物、所述聚合物或其组合的光致抗蚀剂组合物；和一种使用所述光致抗蚀剂组合物形成光致抗蚀剂浮雕图像的方法。

主权项

一种具有以下结构的光酸产生化合物其中m是0、1、2、3、4、5或6；n是0、1、2、3、4或5；R1和R2各自独立地是氢、卤素、羟基、羧基(‑CO2H)、未被取代或被取代的C1‑12烷基、未被取代或被取代的C1‑12烷氧基、未被取代或被取代的C2‑12烷酰基、未被取代或被取代的C2‑12烷酰氧基、未被取代或被取代的C2‑12烷氧基羰基、未被取代或被取代的C3‑12酐、未被取代或被取代的C4‑12内酯、未被取代或被取代的C4‑18乙缩醛、未被取代或被取代的C5‑18缩酮、未被取代或被取代的C6‑12芳基，前提是R1和R2不连接而形成环芳基；X和Y在每次出现时独立地是卤素、羟基、氨基、巯基、羧基、酰胺、氰基、硝基、未被取代或被取代的C1‑18烷基、未被取代或被取代的C1‑18烷氧基、未被取代或被取代的C6‑18芳基、未被取代或被取代的C6‑18芳氧基、未被取代或被取代的C7‑18烷基芳基、未被取代或被取代的C7‑18烷基芳氧基、未被取代或被取代的C2‑12烷氧基羰基、未被取代或被取代的C4‑18乙缩醛或未被取代或被取代的C5‑18缩酮；并且Z‑是包含磺酸酯基、氨基磺酸酯基(sulfonamidate group)、亚氨基磺酸酯基(sulfonimidate group)、甲基化物基团或硼酸酯基的阴离子；其中Z‑任选地包含选自乙烯基和‑C(O)C(R11)＝CH2形式的丙烯酰基的可聚合基团，其中R11是氢、氟、氰基、C1‑9烷基或C1‑9氟烷基；前提是所述光酸产生化合物包含至多一个可聚合基团。