[发明专利]蒸发源及蒸镀系统在审
申请号: | 201710842203.9 | 申请日: | 2017-09-18 |
公开(公告)号: | CN107400858A | 公开(公告)日: | 2017-11-28 |
发明(设计)人: | 胡长奇;苏志玮 | 申请(专利权)人: | 京东方科技集团股份有限公司;合肥鑫晟光电科技有限公司 |
主分类号: | C23C14/24 | 分类号: | C23C14/24 |
代理公司: | 北京银龙知识产权代理有限公司11243 | 代理人: | 许静,刘伟 |
地址: | 100015 *** | 国省代码: | 北京;11 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明涉及一种蒸发源,包括坩埚本体,所述坩埚本体具有用于容纳蒸镀材料的蒸发腔室,且所述蒸发腔室一端开口;以及,扣盖于所述坩埚本体的蒸发腔室的开口上的喷嘴盖板,所述喷嘴盖上设有喷嘴;所述坩埚本体包括用于与所述喷嘴盖板对接的第一对接部;所述喷嘴盖板包括用于与所述坩埚本体对接的第二对接部;所述第一对接部和所述第二对接部之间设有隔热层。本发明还涉及一种蒸镀系统。本发明的有益效果是隔热层的设置避免坩埚本体和喷嘴盖板之间的热传导,增加坩埚本体和喷嘴盖板之间的温度差,改善材料塞孔问题。 | ||
搜索关键词: | 蒸发 系统 | ||
【主权项】:
一种蒸发源,包括:坩埚本体,所述坩埚本体具有用于容纳蒸镀材料的蒸发腔室,且所述蒸发腔室一端开口;以及,扣盖于所述坩埚本体的蒸发腔室的开口上的喷嘴盖板,所述喷嘴盖上设有喷嘴;其特征在于,所述坩埚本体包括用于与所述喷嘴盖板对接的第一对接部;所述喷嘴盖板包括用于与所述坩埚本体对接的第二对接部;所述第一对接部和所述第二对接部之间设有隔热层。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于京东方科技集团股份有限公司;合肥鑫晟光电科技有限公司,未经京东方科技集团股份有限公司;合肥鑫晟光电科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201710842203.9/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:低碳、无油蒸发镀膜设备
- 下一篇:一种蒸发源
- 同类专利
- 专利分类