[发明专利]综合孔径投影辐射的系统成像方法及综合孔径投影辐射计有效

专利信息
申请号: 201710820901.9 申请日: 2017-09-13
公开(公告)号: CN107797110B 公开(公告)日: 2020-11-10
发明(设计)人: 陈建飞;陈晓红;张胜 申请(专利权)人: 南京邮电大学
主分类号: G01S13/90 分类号: G01S13/90;G01S7/03
代理公司: 南京经纬专利商标代理有限公司 32200 代理人: 张艳
地址: 210046 江苏省南京市*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 发明公开了综合孔径投影辐射的系统成像方法及综合孔径投影辐射计,本发明方法以一维线性稀疏阵列作为辐射计的探测扫描阵,将其固定于圆周扫描平台上按固定步进角度对目标场景进行旋转扫描,实现对二维场景的1D投影图像的旋转探测;然后,根据阵列探测角对测得的1D投影图像进行排列,形成角度‑方位图;最后借助余弦匹配算法从角度‑方位图中提出目标场景的亮温图像。本综合孔径投影辐射计能实现本发明方法。本发明以极少的天线阵元数实现了较高精度的二维综合孔径成像,有效降低了综合孔径辐射计系统的成本及结构复杂度,大大拓宽了综合孔径辐射计的实际应用场景。
搜索关键词: 综合 孔径 投影 辐射 系统 成像 方法 辐射计
【主权项】:
综合孔径投影辐射的系统成像方法,其特征在于包括以下操作步骤:步骤1:构建一维线性稀疏阵列排列方式的扫描天线阵,将其固定于圆周扫描平台上,使其可按固定步进角度对目标场景进行旋转扫描;步骤2:利用一维综合孔径成像方法—傅里叶变换法,从步骤1的稀疏阵列观测数据中反演出二维场景的1D投影曲线;步骤3:将步骤2中二维场景的1D投影曲线按其测量角度排列,绘制综合孔径投影辐射计的角度‑方位图;步骤4:利用余弦匹配算法对步骤3中的综合孔径投影辐射计的角度‑方位图中进行数据提取,获取目标场景的亮温图。
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