[发明专利]辐射成像系统及其控制方法有效

专利信息
申请号: 201710805529.4 申请日: 2017-09-08
公开(公告)号: CN109464153B 公开(公告)日: 2022-09-20
发明(设计)人: J·E·特卡茨克;潘锋;顾嘉俊;翟梓融 申请(专利权)人: 通用电气公司
主分类号: A61B6/00 分类号: A61B6/00
代理公司: 上海专利商标事务所有限公司 31100 代理人: 侯颖媖
地址: 美国*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 一种辐射成像系统包括辐射源,其位于所述检测目标的第一侧且用于发射多个射线;和探测器,其位于所述检测目标的第二侧且用于检测来自所述辐射源的多个射线。所述辐射成像系统还包括第一传感器,其位于所述检测目标的第一侧且用于获取所述检测目标的相关信息;和第二传感器,其位于所述探测器上且用于获取探测器位置的相关信息。所述辐射成像系统还包括控制器,其用于基于所述第一传感器获取的所述检测目标的相关信息和所述第二传感器获取的所述探测器位置的相关信息重建三维场景,且基于所述重建的三维场景去控制所述辐射源和所述探测器至少一个的操作。同时还公开了一种控制所述辐射成像系统的方法。
搜索关键词: 辐射 成像 系统 及其 控制 方法
【主权项】:
1.一种辐射成像系统用于成像检测目标,其特征在于,包括:辐射源,其位于所述检测目标的第一侧,用于发射多个射线;探测器,其位于所述检测目标的第二侧,用于检测来自所述辐射源的多个射线;第一传感器,其位于所述检测目标的第一侧,用于获取所述检测目标的相关信息;第二传感器,其位于所述探测器上,用于获取探测器位置的相关信息;以及控制器,其用于基于所述第一传感器获取的所述检测目标的相关信息和所述第二传感器获取的所述探测器位置的相关信息重建三维场景,且基于所述重建的三维场景去控制所述辐射源和所述探测器至少一个的操作。
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