[发明专利]等离子体处理装置有效
申请号: | 201710769779.7 | 申请日: | 2017-08-31 |
公开(公告)号: | CN107801289B | 公开(公告)日: | 2021-08-17 |
发明(设计)人: | 舆水地盐;松土龙夫 | 申请(专利权)人: | 东京毅力科创株式会社 |
主分类号: | H05H1/46 | 分类号: | H05H1/46 |
代理公司: | 北京尚诚知识产权代理有限公司 11322 | 代理人: | 龙淳 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 本发明提供一种对被加工物的离子能量的控制性优异的等离子体处理装置。一实施方式的等离子体处理装置包括:腔室主体;等离子体捕获机构;载置台;等离子体源;和电势调节部。腔室主体提供其内部空间作为腔室。等离子体捕获机构设置成将腔室分为第一空间和第二空间。载置台设置在第二空间。等离子体源构成为使供给到第一空间的气体激发。电势调节部具有电极。该电极设置在腔室主体的外侧,与在第一空间生成的等离子体电容耦合。电势调节部构成为调节在第一空间生成的等离子体的电势。 | ||
搜索关键词: | 等离子体 处理 装置 | ||
【主权项】:
一种等离子体处理装置,其特征在于,包括:腔室主体;设置在由所述腔室主体提供的腔室内,将该腔室分为第一空间和第二空间的等离子体捕获机构;设置在所述第二空间的载置台;使供给到所述第一空间的气体激发的等离子体源;和电势调节部,其具有与在所述第一空间生成的等离子体电容耦合的电极,对该等离子体的电势进行调节。
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