[发明专利]等离子体处理装置

权利要求书

1.一种等离子体处理装置，其特征在于，包括：

腔室主体；

设置在由所述腔室主体提供的腔室内，将该腔室分为第一空间和第二空间的等离子体捕获机构；

设置在所述第二空间的载置台；

使供给到所述第一空间的气体激发的等离子体源；和

电势调节部，其具有与在所述第一空间生成的等离子体电容耦合的电极，对该等离子体的电势进行调节，

所述电势调节部还具有：

连接在所述电极与大地之间的包括可变电抗元件的阻抗调节电路；

检测所述电极的电压的峰值的检测器；和

控制部，通过参照入射到被载置在所述载置台上的被加工物的离子的能量与所述电极的电压的峰值的预定关系，取得与所输入的离子的能量的设定值对应的所述电极的电压的峰值，并控制所述阻抗调节电路的可变电抗元件，以使所取得的该峰值与由所述检测器检测出的所述电极的电压的峰值之差减少，

所述电势调节部能够使所述第一空间中生成的等离子体的电势在低的电势至高的电势之间变更，通过将等离子体的电势设定为低的电势，来阻止或抑制从所述第一空间至所述第二空间的离子的供给，使得由可通过所述等离子体捕获机构的自由基来处理载置于所述载置台上的被加工物，通过将等离子体的电势设定为高的电势，使离子从所述第一空间通过所述等离子体捕获机构而供给到所述第二空间，使得由离子来处理被加工物，从而对载置于所述载置台上的所述被加工物实施利用自由基进行的处理和利用离子进行的处理。

2.如权利要求1所述的等离子体处理装置，其特征在于：

所述等离子体处理装置为电感耦合型的等离子体处理装置，

所述等离子体源具有与高频电源连接的天线，

所述等离子体处理装置还包括设置在所述天线和所述第一空间之间的电介质窗，

所述电极为设置在所述天线与所述电介质窗之间的法拉第屏障。

3.如权利要求2所述的等离子体处理装置，其特征在于：

所述电势调节部还包括电容器，该电容器包括与所述天线连接的一端和连接在所述阻抗调节电路和所述电极之间的另一端。

4.如权利要求1所述的等离子体处理装置，其特征在于：

所述等离子体处理装置还包括从上方划定出所述第一空间的电介质窗，

所述等离子体源具有将微波隔着所述电介质窗导入所述第一空间的天线，

所述电势调节部还包括与所述电极连接的高频电源。