[发明专利]化学机械抛光垫的抛光层有效
| 申请号： | 201710756789.7 | 申请日： | 2017-08-29 |
| 公开（公告）号： | CN107457716B | 公开（公告）日： | 2019-11-22 |
| 发明（设计）人： | 朱顺全;罗乙杰;刘敏 | 申请（专利权）人： | 湖北鼎龙控股股份有限公司 |
| 主分类号： | B24D18/00 | 分类号： | B24D18/00 |
| 代理公司： | 42104 武汉开元知识产权代理有限公司 | 代理人： | 涂洁<国际申请>=<国际公布>=<进入国 |
| 地址： | 430057 湖北省*** | 国省代码： | 湖北;42 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种化学机械抛光垫的抛光层，解决了现有抛光层划痕与去除速率难以平衡、耐久性差等问题。技术方案包括由多元醇、多元胺以及多异氰酸酯反应制得，其特征在于，所述多元醇为聚四亚甲基醚多元醇和具有如下通式的聚酯多元醇的混合物，其中，a+b≤4；其中所示聚酯多元醇占多元醇的质量分数为x，5％≤x≤20％，并且所述抛光层在25℃和40℃时的硬度和储能模量满足下式，其中E′40和E′25分别是抛光垫层在40℃和25℃温度下的储能模量，H40和H25分别是抛光垫在40℃和25℃下的硬度。本发明抛光层具有划痕少、去除率高、研磨速率高、耐久性好的优点。 | ||
| 搜索关键词： | 化学 机械抛光 抛光 | ||
【主权项】：
1.一种化学机械抛光垫的抛光层，由多元醇、多元胺以及多异氰酸酯反应制得，其特征在于，所述多元醇为聚四亚甲基醚多元醇和具有如下通式的聚酯多元醇的混合物，/n
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