[发明专利]一种基于自限制形核生长的大尺寸高质量石墨烯制备方法有效

专利信息
申请号: 201710712230.4 申请日: 2017-08-18
公开(公告)号: CN107522191B 公开(公告)日: 2020-07-24
发明(设计)人: 张安平;赵炎;杨明超;陈家玉;魏葳;张晓东;田占元 申请(专利权)人: 西安交通大学;陕西煤业化工技术研究院有限责任公司
主分类号: C01B32/186 分类号: C01B32/186;C25D3/12;C23C14/16
代理公司: 西安智大知识产权代理事务所 61215 代理人: 段俊涛
地址: 710048*** 国省代码: 陕西;61
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摘要: 发明涉及一种基于自限制形核生长的大尺寸高质量石墨烯制备方法,具体包括制备覆盖镍的铜衬底,在真空的保护气氛中快速升温,到达特定的生长温度后,通入工艺气体进行石墨烯生长。生长初期金属表面为镍,可以有效控制石墨烯的形核点。生长过程中,铜逐步扩散至镍层形成富镍的铜镍合金,可以促进形核点快速生长。随着表面层中铜组份的不断增加,可有效单层石墨烯的大尺寸单晶形成,同时保持单晶的快速生长,实现大尺寸高质量的连续石墨烯薄膜。
搜索关键词: 一种 基于 限制 生长 尺寸 质量 石墨 制备 方法
【主权项】:
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