[发明专利]一种高疏水多元掺杂类金刚石薄膜及其制备方法有效
| 申请号： | 201710703168.2 | 申请日： | 2017-08-16 |
| 公开（公告）号： | CN107502860B | 公开（公告）日： | 2020-07-17 |
| 发明（设计）人： | 陈立;吴德生;朱得菊 | 申请（专利权）人： | 信利光电股份有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/06 | 分类号： | C23C14/06;C23C14/35 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人： | 赵青朵 |
| 地址： | 516600 广东省汕尾*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： |
本发明提供了一种高疏水多元掺杂类金刚石薄膜，包括：掺杂F和Si的DLC薄膜层。与现有技术相比，本发明提供的高疏水多元掺杂类金刚石薄膜膜层较薄，只有10nm左右，同时含有F和Si的元素掺杂，F的掺杂，在DLC薄膜表面形成低表面能的‑CF和‑CF |
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| 搜索关键词： | 一种 疏水 多元 掺杂 金刚石 薄膜 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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