[发明专利]偏振膜的制造方法和制造装置有效
| 申请号： | 201710702074.3 | 申请日： | 2017-08-16 |
| 公开（公告）号： | CN107765354B | 公开（公告）日： | 2022-09-09 |
| 发明（设计）人： | 住田幸司;赵天熙;朴重万 | 申请（专利权）人： | 住友化学株式会社 |
| 主分类号： | G02B5/30 | 分类号： | G02B5/30;G02F1/1335 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 朱丹 |
| 地址： | 日本国*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明的目的是提供尽管硼含有率降低但仍然具有高光学特性的偏振膜的制造方法及其制造装置。一种偏振膜的制造方法，其是由聚乙烯醇系树脂膜制造硼含有率为2.0～3.5重量％的偏振膜的方法，包括下述工序：将前述聚乙烯醇系树脂膜用二色性色素进行染色处理的染色工序；使前述染色工序后的前述聚乙烯醇系树脂膜浸渍于交联浴而进行交联处理的交联工序，所述交联浴包含含有硼化合物的交联剂的水溶液；对前述交联工序后的前述聚乙烯醇系树脂膜照射电磁波的电磁波照射工序，所述电磁波中的波长超过2μm且为4μm以下的红外线的辐射能量的比例为总辐射能量的25％以上；以及，将照射前述电磁波后的前述聚乙烯醇系树脂膜进行清洗的清洗工序。 | ||
| 搜索关键词： | 偏振 制造 方法 装置 | ||
【主权项】：
一种偏振膜的制造方法，其是由聚乙烯醇系树脂膜制造硼含有率为2.0～3.5重量％的偏振膜的方法，包括下述工序：将所述聚乙烯醇系树脂膜用二色性色素进行染色处理的染色工序；使所述染色工序后的所述聚乙烯醇系树脂膜浸渍于交联浴而进行交联处理的交联工序，所述交联浴包含含有硼化合物的交联剂的水溶液；对所述交联工序后的所述聚乙烯醇系树脂膜照射电磁波的电磁波照射工序，所述电磁波中的波长超过2μm且为4μm以下的红外线的辐射能量的比例为总辐射能量的25％以上；以及将照射所述电磁波后的所述聚乙烯醇系树脂膜进行清洗的清洗工序。
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