[发明专利]偏振膜的制造方法和制造装置在审

专利信息
申请号: 201710701567.5 申请日: 2017-08-16
公开(公告)号: CN107765353A 公开(公告)日: 2018-03-06
发明(设计)人: 田中阳祐;古谷勉;权容铉;朴重万 申请(专利权)人: 住友化学株式会社
主分类号: G02B5/30 分类号: G02B5/30;C08J7/00;C08J3/28;C08J3/24;D06P3/58;C08L29/04
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司11021 代理人: 葛凡
地址: 日本国*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 发明提供偏振膜的制造方法及制造装置,其能够得到光学特性和耐久性均优异的偏振膜。一种偏振膜的制造方法,其为由聚乙烯醇系树脂膜制造偏振膜的方法,所述偏振膜的制造方法包括用二色性色素对所述聚乙烯醇系树脂膜进行染色处理的染色工序,用交联剂对所述染色工序后的所述聚乙烯醇系树脂膜进行交联处理的交联工序,对所述交联工序后的所述聚乙烯醇系树脂膜照射包含红外线的电磁波的电磁波照射工序,和将照射所述电磁波后的所述聚乙烯醇系树脂膜曝露于绝对湿度为80g/m3以上的气氛的高湿处理工序。
搜索关键词: 偏振 制造 方法 装置
【主权项】:
一种偏振膜的制造方法,其为由聚乙烯醇系树脂膜制造偏振膜的方法,所述偏振膜的制造方法包括:染色工序,用二色性色素对所述聚乙烯醇系树脂膜进行染色处理;交联工序,用交联剂对所述染色工序后的所述聚乙烯醇系树脂膜进行交联处理;电磁波照射工序,对所述交联工序后的所述聚乙烯醇系树脂膜照射包含红外线的电磁波;和高湿处理工序,将照射所述电磁波后的所述聚乙烯醇系树脂膜曝露于绝对湿度为80g/m3以上的气氛。
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